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唐云

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文基金：电子薄膜与集成器件国家重点实验室基础研究开放创新基金更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电阻
  • 1篇电阻温度系数
  • 1篇方阻

机构

  • 1篇电子科技大学

作者

  • 1篇张万里
  • 1篇蒋洪川
  • 1篇司旭
  • 1篇刘飞飞
  • 1篇唐云

传媒

  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
热处理对TaN薄膜电性能的影响被引量：3
2011年
采用直流磁控溅射法在Al2O3陶瓷基片上制备了TaN薄膜,研究了热处理温度和时间对TaN薄膜的方阻(R□)及电阻温度系数(TCR)的影响。研究发现,在热处理时间为2h的条件下,热处理温度在200℃到600℃变化时,R□从12?/□增加到24?/□,TCR从15×10-6/℃下降到-80×10-6/℃;在热处理温度为300℃的条件下,热处理时间对R□及TCR影响较小,随着热处理时间的增长,R□及TCR略有变化。
刘飞飞唐云张万里蒋洪川司旭
关键词：方阻电阻温度系数
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