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田东

作品数:2 被引量:6H指数:1
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 1篇英文
  • 1篇中红外
  • 1篇透射
  • 1篇透射光
  • 1篇透射光谱
  • 1篇热稳定
  • 1篇热稳定性
  • 1篇热稳定性研究
  • 1篇离子溅射
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束溅射
  • 1篇光谱
  • 1篇光谱法
  • 1篇光学
  • 1篇光学常数
  • 1篇红外
  • 1篇红外窗口
  • 1篇SIO2
  • 1篇TA2O5

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇浙江大学
  • 1篇天津津航技术...
  • 1篇中国科学院大...
  • 1篇学研究院

作者

  • 2篇熊胜明
  • 2篇李凌辉
  • 2篇尚鹏
  • 2篇田东
  • 1篇季一勤
  • 1篇刘华松

传媒

  • 1篇光学学报
  • 1篇光子学报

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2014
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
双离子束溅射中红外SiO_2薄膜热稳定性研究(英文)被引量:1
2017年
通过双离子束溅射方法在蓝宝石、硅衬底上制备了单层SiO_2薄膜,分析了SiO_2薄膜残余应力、表面形貌、微观结构以及光学性能(可见-近红外0.4~1.2μm和中红外3~5μm波段)在400℃~1 000℃温度范围内的演化规律.研究结果表明:在400℃附近,SiO_2薄膜残余应力存在局部极小值;SiO_2薄膜光学性能的演化与膜层表面质量、内部残余应力及微观结构变化密切相关;经1 000℃高温处理后,蓝宝石窗口表面SiO_2薄膜红外透射性能仍能保持很好的稳定性,且膜层表面没有出现显著的气泡、开裂等损伤形貌.该研究结果可为恶劣环境下光学窗口头罩表面薄膜系统的设计提供指导.
尚鹏季一勤赵道林熊胜明刘华松李凌辉田东
关键词:红外窗口离子溅射热稳定性
光谱法确定离子束溅射Ta_2O_5/SiO_2薄膜的光学常数及其性能被引量:5
2014年
采用双离子溅射的方法,在硅、石英基底上制备了单层Ta2O5、SiO2及双层Ta2O5/SiO2光学薄膜。结合Cauchy色散模型,利用石英基底上单层Ta2O5及双层Ta2O5/SiO2薄膜透射光谱曲线,采用改进的遗传单纯形混合算法,获得了Ta2O5和SiO2薄膜材料在400-700nm波段的光学常数。结果表明,理论分析值与实验测量值取得了很好的一致性,拟合出的单层Ta2O5薄膜折射率误差小于0.001,膜层厚度误差不超过1nm;双层Ta2O5/SiO2薄膜最大折射率误差小于0.004,最大厚度误差小于2.5nm。此外,还对400℃高温环境下双层Ta2O5/SiO2薄膜的微观结构、应力、表面形貌及光学性能变化进行了研究。
尚鹏熊胜明李凌辉田东
关键词:光学常数透射光谱
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