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邸文文

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：天津工业大学理学院更多>>
发文基金：天津市自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇多孔
  • 1篇多孔氧化铝
  • 1篇氧化铝纳米线
  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇磷酸
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米线
  • 1篇刻蚀
  • 1篇AAO模板

机构

  • 1篇天津工业大学

作者

  • 1篇张海明
  • 1篇胡国锋
  • 1篇李育洁
  • 1篇朱彦君
  • 1篇邸文文
  • 1篇高波

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
AAO模板的湿法刻蚀研究被引量：1
2010年
利用二次阳极氧化法制备多孔氧化铝(AAO)模板,然后用NaOH、磷铬酸和不同质量分数的H3PO4等溶液,对AAO模板进行湿法刻蚀。研究了刻蚀时间与AAO模板质量减少之间的变化关系。结果表明,质量分数为3%的H3PO4溶液是最为温和的刻蚀剂,它在刻蚀过程中AAO模板的质量减少跟刻蚀时间呈较好的线性关系。SEM测试表明,刻蚀后的AAO模板表面存在大量的氧化铝纳米线,它们是在刻蚀的过程中产生的,并影响着刻蚀速率。通过调节刻蚀时间,可实现对AAO模板的精确可控刻蚀,这对制备纳米器件具有重要意义。
胡国锋张海明邸文文李育洁高波朱彦君
关键词：多孔氧化铝湿法刻蚀磷酸氧化铝纳米线
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