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王玉宝

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:兰州理工大学理学院应用物理系更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇掺杂
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学沉积
  • 1篇碳膜
  • 1篇铁掺杂
  • 1篇紫外
  • 1篇紫外光
  • 1篇紫外光辐照
  • 1篇钛硅
  • 1篇微结构
  • 1篇纳米
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇类金刚石
  • 1篇类金刚石薄膜
  • 1篇共掺
  • 1篇共掺杂
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶碳
  • 1篇非晶碳膜
  • 1篇辐照

机构

  • 2篇兰州理工大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 2篇张霞
  • 2篇姜金龙
  • 2篇王玉宝
  • 1篇耿庆芬
  • 1篇黄浩
  • 1篇王琼
  • 1篇魏智强
  • 1篇陈娣

传媒

  • 1篇无机材料学报
  • 1篇材料热处理学...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2014
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
电化学沉积铁-非晶碳磁性纳米复合薄膜
2016年
利用液相电化学方法,以乙酰丙酮铁的甲醇溶液为碳源,在单晶硅表面制备了铁-非晶碳磁性纳米复合薄膜。通过扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱和Raman光谱技术分析了薄膜组成、形貌和结构。结果表明:Fe掺杂的非晶碳膜为含有Fe、Fe_3O_4纳米晶和非晶碳基的复合结构。和未掺杂非晶碳膜相比,Fe掺杂的薄膜具有更高的sp2碳含量和无序度。磁滞回线显示Fe掺杂的薄膜具有软磁特性,沿薄膜表面方向为易磁化方向。
王玉宝陈娣张霞魏智强姜金龙
关键词:电化学沉积铁掺杂非晶碳膜磁学性质
紫外光辐照下钛硅共掺杂类金刚石薄膜微结构的演化被引量:1
2014年
采用中频磁控溅射Ti80Si20合金靶在单晶硅表面制备了钛硅共掺杂的类金刚石薄膜。利用紫外–可见光多波长Raman光谱表征薄膜微结构,并结合FTIR光谱研究了紫外光辐照对类金刚石薄膜微结构的影响,进一步讨论了紫外光辐照下薄膜微结构的演化机理。结果表明:非晶结构的类金刚石薄膜出现反式聚乙炔和聚对苯乙炔类聚合物结构以及sp杂化的线型卡宾碳结构。紫外光辐照诱导薄膜微结构驰豫和重构,薄膜Si–O和C–O键含量增加,C=C和C–H键含量减少;同时薄膜sp2团簇尺寸减小而无序度增大。
姜金龙王琼黄浩张霞王玉宝耿庆芬
关键词:类金刚石薄膜紫外光辐照
共1页<1>
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