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方圆

作品数:1 被引量:0H指数:0
供职机构:武汉科技大学更多>>
发文基金:湖北省教育厅科学技术研究项目湖北省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇带隙基准
  • 1篇低温漂
  • 1篇电源抑制
  • 1篇电源抑制比
  • 1篇抑制比
  • 1篇基准电压
  • 1篇基准电压源
  • 1篇CMOS基准...

机构

  • 1篇武汉科技大学

作者

  • 1篇张涛
  • 1篇周凤星
  • 1篇方圆

传媒

  • 1篇电子设计工程

年份

  • 1篇2012
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
一种高电源抑制比全工艺角低温漂CMOS基准电压源
2012年
基于SMIC0.35μm的CMOS工艺,设计了一种高电源抑制比,同时可在全工艺角下的得到低温漂的带隙基准电路。首先采用一个具有高电源抑制比的基准电压,通过电压放大器放大得到稳定的电压,以提供给带隙核心电路作为供电电源,从而提高了电源抑制比。另外,将电路中的关键电阻设置为可调电阻,从而可以改变正温度电压的系数,以适应不同工艺下负温度系数的变化,最终得到在全工艺角下低温漂的基准电压。Cadence virtuoso仿真表明:在27℃下,10 Hz时电源抑制比(PSRR)-109 dB,10 kHz时(PSRR)达到-64 dB;在4 V电源电压下,在-40~80℃范围内的不同工艺角下,温度系数均可达到5.6×10-6V/℃以下。
方圆周凤星张涛张迪
关键词:带隙基准电源抑制比
共1页<1>
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