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陈加林

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：昆明贵金属研究所更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇前驱体
  • 1篇MOCVD
  • 1篇MOCVD法
  • 1篇HFO2

机构

  • 1篇昆明贵金属研...

作者

  • 1篇谌喜珠
  • 1篇常桥稳
  • 1篇叶青松
  • 1篇余尧
  • 1篇刘伟平
  • 1篇张妮
  • 1篇陈加林

传媒

  • 1篇材料导报（纳...

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
MOCVD法制备Hf02薄膜前驱体的研究现状
2009年
HfO2薄膜是一种新兴的薄膜材料，在耐高温保护涂层、微电子、催化等领域有着非常重要的应用。HfO2薄膜优异的性能及广阔的应用前景已经引起人们极大的关注。介绍了MOCVD法制备HfO2薄膜前驱体的研究进展和现状，着重讨论了MOCVD工艺中各类前驱体的优缺点，概述了目前研究的热点和进一步研究的方向。最后得出结论：目前使用较多的β-二酮类铪配合物自身存在许多不利于MOCVD工艺的缺点，因此混合配体的铪配合物成为进一步研究的焦点。
张妮常桥稳余尧叶青松谌喜珠刘伟平陈加林
关键词：HFO2前驱体MOCVD
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共1页<1>
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