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韩先虎

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:江南大学物联网工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇溶剂
  • 2篇椭偏光谱
  • 2篇光谱
  • 1篇旋涂
  • 1篇蒸汽压
  • 1篇溶液法
  • 1篇水热
  • 1篇水热处理
  • 1篇微观形貌
  • 1篇微结构
  • 1篇禁带
  • 1篇禁带宽度
  • 1篇绝缘膜
  • 1篇沸点
  • 1篇薄膜微结构
  • 1篇PVP
  • 1篇RUBREN...
  • 1篇ZNO
  • 1篇ZNO薄膜

机构

  • 3篇江南大学

作者

  • 3篇钟传杰
  • 3篇韩先虎
  • 3篇刘泉水
  • 3篇钱峰

传媒

  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇微电子学
  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 1篇2016
  • 2篇2015
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
溶剂蒸汽压对溶液法制备PVP绝缘膜的影响
2015年
利用溶剂蒸汽辅助旋涂和辅助退火(SVA)工艺制备了PVP栅绝缘膜,并研究了SVA过程中溶剂蒸汽压对PVP膜特性的影响。根据椭偏光谱的柯西模型和有效介质近似(EMA)模型,对椭偏谱参数拟合分析得到了PVP膜光学参数与其微结构的关系。拟合结果表明,随着蒸汽压的增大,PVP膜总厚度(均小于30nm)和粗糙层厚度均降低,膜致密性得到改善。由这种膜构成的MIS结构的J-V特性测试结果显示,当蒸汽压由0.21增加至0.82时,在电场为5 MV/cm的条件下,其漏电流密度由1.04×10-6 A/cm2降至1.42×10-7 A/cm2。而且在蒸汽压为0.82时可得到膜厚仅约为20nm、单位面积电容达到145nF/cm2的超薄PVP膜。
刘泉水韩先虎钱峰钟传杰
关键词:椭偏光谱
水热处理对ZnO薄膜微结构及光学性能的影响
2015年
基于溶液工艺和水热处理制备了ZnO薄膜。采用椭圆偏振光谱分析仪,原子力显微镜,X射线衍射仪研究和分析了水热处理温度对薄膜的微观形貌,光学特性,晶体结构的影响。实验结果表明,水热处理温度由110℃升高到130℃,薄膜光学带隙由3.19eV增大到3.31eV,而薄膜表面粗糙度从19.3nm降到12.9nm。然而,当处理温度超过140℃后,与130℃下处理的膜相比质量显著劣化。此外,130℃下水热处理的膜与500℃下高温退火的膜对比表明水热法有相似的光学特性,同时,XRD分析表明水热处理能改善晶体特性。证明了利用水热处理能够极大地降低溶液法制备ZnO薄膜所需的退火温度。
钱峰刘泉水韩先虎钟传杰
关键词:ZNO薄膜微观形貌禁带宽度
溶剂沸点对旋涂Rubrene薄膜性能的影响
2016年
研究了溶剂沸点对溶液法制备Rubrene薄膜特性的影响。使用苯甲醚、氯苯、甲苯和氯仿等溶剂旋涂制备了Rubrene薄膜,并使用椭偏仪对其光学参数进行研究,采用空间电荷限制电流法获得薄膜电学特性。当使用高沸点的苯甲醚作溶剂时,获得的Rubrene薄膜迁移率为1.58×10-5 cm2/(V·s),薄膜折射率最大,薄膜均一性和致密性较好,粗糙层厚度最小,仅为11.92nm;而采用低沸点的氯仿作溶剂时,获得的Rubrene薄膜迁移率仅为1.07×10-10 cm2/(V·s)。研究结果表明,溶剂的沸点对Rubrene薄膜特性有较大影响,高沸点的溶剂容易获得性能优良的薄膜。
韩先虎钱峰刘泉水钟传杰
关键词:RUBRENE椭偏光谱
共1页<1>
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