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苟世霞

作品数:2 被引量:14H指数:2
供职机构:中国矿业大学(北京)化学与环境工程学院更多>>
发文基金:北京市自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:环境科学与工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇环境科学与工...

主题

  • 1篇运行效果
  • 1篇水处理
  • 1篇水处理厂
  • 1篇土霉素废水
  • 1篇污水
  • 1篇污水处理
  • 1篇污水处理厂
  • 1篇污水处理厂工...
  • 1篇废水
  • 1篇高级氧化技术
  • 1篇高级氧化技术...
  • 1篇PHOTO-...
  • 1篇UV254
  • 1篇FENTON...

机构

  • 2篇北京交通大学
  • 2篇中国矿业大学...
  • 1篇佐治亚理工学...

作者

  • 2篇王春荣
  • 2篇苟世霞
  • 1篇姚宏
  • 1篇于晓华
  • 1篇王辉

传媒

  • 1篇甘肃科学学报
  • 1篇环境工程学报

年份

  • 2篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
美国某污水处理厂工艺设计及运行效果被引量:9
2013年
介绍了美国某污水处理厂的处理工艺流程、主要构筑物构成及其设计参数,通过对该污水处理厂一年内运行效果的调研,分析评价了该污水厂的进出水水质指标;该水厂工艺流程对TSS、BOD5、COD、NH3-N、TP和浊度的年平均去除率分别可以达到97.7%、97.7%、93.5%、82.6%、95.2%和97.9%,各项出水水质均优于我国《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB18918-2002)一级A标准,通过对该水厂工艺的介绍和分析,为我国污水厂的建设及改造升级提供了一定的参考依据。
姚宏王辉苟世霞王春荣
关键词:污水处理厂运行效果
Photo-Fenton高级氧化技术处理土霉素废水的研究被引量:5
2013年
以内蒙某土霉素制药厂的二级出水为研究对象(CODcr约为400mg/L),采用UV254/Fenton高级氧化技术对其进行深度处理.研究了光强、pH值、H2O2的投加量以及H2O2与Fe2+的摩尔比值对CODcr去除率的影响.结果表明:处理土霉素废水的最佳条件是光强为850μw/cm2,废水初始pH为3,H2O2与Fe2+的摩尔比值为1∶1,H2O2的投加量为400mg/L,反应时间为60min,此时CODcr为113.6mg/L,去除率为71.6%.
苟世霞王春荣于晓华田盛马友千
关键词:土霉素废水FENTON试剂UV254
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