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吴华杰

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：电子科技大学光电信息学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇性能研究
  • 1篇透光率
  • 1篇晶向
  • 1篇溅射
  • 1篇光学
  • 1篇薄膜光学
  • 1篇LAB
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇电子科技大学

作者

  • 1篇邓江
  • 1篇林祖伦
  • 1篇王小菊
  • 1篇吴华杰

传媒

  • 1篇电子器件

年份

  • 1篇2015
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
磁控溅射LaB_6薄膜光学性能研究
2015年
采用磁控溅射法在玻璃基片上沉积La B6薄膜。通过改变溅射功率参数,获得最佳制备工艺条件。采用XPS、X射线衍射仪和分光光度计研究薄膜的成分、结构、晶向以及透过率。当溅射功率为44 W,氩气气压为1.5 Pa,氩气流量为27 sccm时制备的La B6薄膜表面相对平整,结构致密。XRD数据也表明,此时La B6薄膜结晶度最高且(110)晶面发生明显的择优生长。同时分光光度计结果显示:薄膜的透过率随溅射时间的增加而降低,并且最高透过率对应的波长没有发生变化。
吴华杰林祖伦王小菊邓江
关键词：磁控溅射晶向透光率
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共1页<1>
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