徐瑞丽
- 作品数：2 被引量：3H指数：1
- 供职机构：江苏大学机械工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省“六大人才高峰”高层次人才项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信更多>>
- 多组分掺杂ZnO陶瓷薄膜的射频磁控溅射法制备及表征被引量：2
- 2011年
- 采用传统陶瓷烧结工艺,制备了直径为50mm,厚度为3mm的Bi2O3、Sb2O3、Co2O3、Cr2O3、MnO2掺杂的ZnO陶瓷靶,采用所制备的ZnO陶瓷靶和射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上成功制备出了ZnO陶瓷薄膜,并研究了溅射功率和退火温度对ZnO陶瓷薄膜的微观结构和表面形貌的影响。结果表明:随着溅射功率的增大,ZnO陶瓷薄膜的沉积速率增大;颗粒尺寸先减小后增大。随着退火温度的升高,ZnO陶瓷薄膜的c轴取向增强;晶粒尺寸增大。溅射功率为350W,退火温度为850℃,制备出的陶瓷薄膜的相组成是ZnO主晶相、富Bi2O3相、Sb2O3相以及Zn2.33Sb0.67O4尖晶石相,得到了具有压敏电阻特性的组织结构。
- 花银群孙真真陈瑞芳徐瑞丽
- 关键词：无机非金属材料射频磁控溅射溅射功率退火温度
- 氧化铋薄膜的制备及退火温度对其物相和表面形貌的影响被引量：1
- 2013年
- 采用传统陶瓷烧结工艺,制备了直径为50 mm、厚度为3 mm的Bi_2O_3陶瓷靶,利用该陶瓷靶和射频磁控溅射技术在Si(111)基体上制备了氧化铋薄膜,研究了溅射压力为0.8 Pa时的氧分压对薄膜物相的影响,并探讨了退火温度(350～550℃)对薄膜的物相和表面形貌的影响。结果表明:随着氧分压从0增大到0.36 Pa,薄膜由BiO相逐渐变成α-Bi_2O_3相;随着退火温度的升高,薄膜中出现了新的物相,仍为多相结构,不同相的衍射峰半高宽变化有增有减;薄膜的晶粒尺寸随退火温度的升高而增大。
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- 关键词：氧化铋磁控溅射退火温度
