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贾春燕

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院大连化学物理研究所更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇氧化铝薄膜
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇偏压
  • 1篇污染
  • 1篇溅射
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇长春理工大学
  • 1篇大连理工大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇董闯
  • 1篇李刚
  • 1篇公发全
  • 1篇刘万发
  • 1篇吕起鹏
  • 1篇贾春燕

传媒

  • 1篇长春理工大学...

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
射频磁控溅射中偏压对薄膜污染的影响被引量：1
2013年
薄膜溅射过程中杂质污染问题是影响薄膜质量的重要因素,会造成薄膜的吸收和散射损耗增大、结合力下降,形成针孔等。采用射频磁控溅射沉积氧化铝薄膜时,发现在不同负偏压条件下,真空室内的金属离子会造成不同程度薄膜污染,采用XPS对污染物进行了测试表征,并对污染来源进行了分析,最后得出结论:在较高负偏压条件下真空室器壁金属溅射,是造成镀制氧化铝薄膜的重要污染源。
公发全李刚吕起鹏贾春燕刘万发董闯
关键词：射频磁控溅射氧化铝薄膜偏压
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共1页<1>
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