王庆
- 作品数：15 被引量：19H指数：2
- 供职机构：曲阜师范大学物理工程学院激光研究所更多>>
- 发文基金：山东省教育厅科技计划山东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 沉积温度对HfO_2薄膜应力及光学特性的影响被引量：1
- 2011年
- 采用电子枪蒸镀法制备了不同沉积温度下的HfO2薄膜样品,利用ZYGO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、X射线衍射(XRD)仪和冷场发射扫描电镜(SEM)对样品进行了测试。结果表明,在实验所选择的沉积温度下,制备的薄膜都是非晶态结构;残余应力和本征应力均为张应力,沉积温度低于220℃时热应力对残余应力起主要作用;沉积温度高于220℃时,本征应力对残余应力起主要作用,且沉积温度220℃时残余应力最小;HfO2折射率随沉积温度的升高而增大,不同沉积温度下制备的薄膜折射率都是正常色散;沉积温度220℃下制备的薄膜平整度最好。这些结果可以为镀制高质量HfO2薄膜提供参考。
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- 关键词：残余应力HFO2薄膜沉积温度光学特性
- 改善石英晶体旋光滤波器次极大的优化设计被引量：1
- 2010年
- 为了改善滤波光谱的次极大,提高透过滤波片观察像的衬度,设计了减小次极大光强的石英晶体旋光滤波结构,并从理论上分析了滤波特性。以3级石英晶体旋光滤波器为例,由分析可知,在第3级之后增加1级与第1级或第2级相同的结构,均有效地减小了次极大的光强;比较发现,增加1级第2级的结构效果较好。结果表明,此设计对改善石英晶旋光滤波器次极大应用于观测光谱中提供了理论依据。
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- 关键词：偏振光学光学滤波器偏振石英晶体旋光色散
- 沉积速率对HfO_2薄膜应力和光学特性的影响
- 2010年
- 利用电子枪蒸镀法制备了HfO2薄膜,控制沉积速率分别为3.3/s、5.5/s和9.6/s.利用ZGYO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、D/Max-ⅢA型X射线衍射仪和JSM-6700F冷场发射扫描电镜对样品进行了测试.结果表明:在本实验条件下制备的HfO2薄膜都是非晶态结构.样品的残余应力与本征应力变化趋势相同,都随沉积速率的加快先增后减,沉积速率为3.3/s时应力最小.不同沉积速率下制备样品的折射率都是正常色散,3.3/s沉积的样品色散较小并且有较好的表面平整度.这些结果为制备高性能HfO2薄膜提供参考.
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- 关键词：应力沉积速率微结构折射率
- Evans双折射滤波器特性分析被引量：1
- 2009年
- 为了从理论上对Evans滤波器的性质进行研究,利用Mueller矩阵和Stokes参量进行理论分析,得到了Evans双折射滤波器的透射比,自由光谱范围和通带半高宽的公式。分析结果表明自由光谱范围和通带半高宽随干涉级次的变大单调下降;自由光谱范围和通带半高宽随波长变长单调上升,并近似是线性关系。
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- 关键词：应用光学透射比
- 负双轴晶体光轴角和光线轴角推导的新方法被引量：1
- 2009年
- 为了有助于人们更好的理解和区分双轴晶体的光轴角和光线轴角,以及对光在晶体中传播的理解,本文以负双轴晶体为例,根据光轴和光线轴的定义,从菲涅耳波面法线方程和光线方程出发,推导出了光轴角和光线轴角的表达式。作为对此新方法的验证,通过几何作图法得到了一致的结果,由此证明这一新方法是正确的。
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- 关键词：双轴晶体
- 改善石英晶体双折射滤波器次极大的优化设计
- 2010年
- 针对双折射滤波器中器件损耗的情况,同时为了改善滤波光谱的次极大,设计了一种新型滤波器,并从原理上作了分析,此新型滤波器与原有多级滤波器相比,主要的改进在于减少了所用偏光镜的数目,从而提高了出射光的透过率.以Schoolman型石英晶体双折射滤波器为例,将此新型滤波器与原有结构进行了比较,从理论上分析了在考虑各器件损耗的情况下的滤波特性,结果表明,此滤波器具有减少出射光损耗的显著效果.
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- 关键词：物理光学光学滤波器偏振石英晶体双折射
- 基于受抑全反射和全反射原理的薄膜平行分束偏光镜被引量：1
- 2010年
- 为了获得宽光谱、高消光比、大视场角、具有较大剪切差的平行分束偏光镜,根据受抑全反射和全反射原理,设计了550-700 nm光谱范围内的薄膜平行分束偏光镜.利用TFCalc薄膜软件进行了数值模拟和优化,从理论上分析了这种薄膜平行分束偏光镜的视场角和消光比.分析结果表明:在设计光谱范围内,封装光学玻璃棱镜中的入射角范围为62°-74°,空气中的视场角为±10°,p偏振分量的消光比优于1.5×10-3,s偏振分量的消光比优于1.0×10-3.
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- 关键词：薄膜光学消光比剪切差
- 对称膜系偏光分束镜特征参量的入射角效应
- 2010年
- 为了研究入射角对对称膜系薄膜偏光分束镜性能的影响,从等效膜层理论和截止带理论出发,采用图像法分析了分光光谱带宽和透过率随入射角的变化趋势和原因。利用UV3101-PC分光光度计测量了(LHL)^N膜系偏光分束镜在不同入射角下的透射分光光谱,实验结果与理论分析一致。结果表明,分光光谱带宽和入射角存在直接联系,分光光谱带宽随入射角的增大先变宽后变窄,存在一个带宽最大值,以带宽最大值对应的入射角为基点,减小入射角时,分光光谱带宽向长波段漂移并且出现凹陷;增大入射角时,分光光谱向短波段漂移。这些结果对优化对称膜系薄膜偏光分束镜有一定的参考价值。
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- 关键词：偏光分束镜透过率带宽
- 退火温度对HfO2薄膜应力和光学特性的影响被引量：2
- 2011年
- 为了研究退火温度对HfO_2薄膜应力、光学常数和表面粗糙度的影响,采用电子枪蒸镀法制备了薄膜样品,在不同温度下进行了退火处理。利用ZYGO干涉仪、UV-3101PC分光光度计、X射线衍射仪和冷场发射扫描电镜对样品进行了测试。结果表明,在本实验条件下制备的HfO_2薄膜都是无定形结构;残余应力均为张应力,且随退火温度的升高呈先减小后增大现象,在300℃退火条件下具有最小应力;HfO_2薄膜折射率随退火温度的升高而增大,并且色散减小;低温退火可以提高HfO_2薄膜的平整度,高温退火反而会使HfO_2薄膜表面粗糙度增加。这些结果可以为制备高质量HfO_2薄膜提供参考。
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- 关键词：HFO2薄膜残余应力退火微结构
- 大视场角1/4对称膜系偏光分束镜的研究
- 2010年
- 为了增大薄膜偏光分束镜(PBS)的视场角,从对称膜系等效折射率公式和截止带理论出发,设计了对称膜系结构的大视场角PBS。利用电子枪蒸镀法制备了低高低折射率(LHL)膜系结构的PBS,利用UV3101-PC分光光度计测量了PBS在不同入射角下的透射分光光谱,通过消光比测试系统测量了PBS反射光和透射光的消光比。结果表明,偏光分光光谱随入射角变化不明显,在视场角范围内具有较好的消光比(10-3量级),实验结果与理论设计一致。由此可见,利用周期性对称膜系设计大视场角薄膜PBS是完全可行的,为研制大视场角薄膜PBS提供了新的设计方法。
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- 关键词：薄膜光学视场角消光比
