蒋毕亮
- 作品数：5 被引量：7H指数：1
- 供职机构：南京航空航天大学更多>>
- 发文基金：中国博士后科学基金江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 双面抛光运动的数学建模及轨迹优化被引量：7
- 2011年
- 双面抛光运动过程复杂,对光学材料的加工有重要的影响,运动轨迹分布不但影响加工效率,而且影响加工工件的表面质量。通过分析双面抛光加工的运动过程,建立双面抛光中任意一点相对于上抛光盘的运动轨迹的数学模型,改变数学模型中的轨迹运动参数,观察不同参数值对抛光轨迹分布的影响,优化分析得出抛光轨迹分布最佳的运动参数值。研究结果表明,工件在行星轮中的位置远离行星轮的回转中心,行星轮与整个抛光盘半径比为0.3,抛光盘与内齿轮的转速比在3~8倍之间,内外齿轮的转速比在1~4倍的范围内,获得的抛光轨迹最优。
- 张彦李军朱永伟高平李标蒋毕亮左敦稳
- 关键词：光学材料数学建模
- 带有过渡层和粘接层的固结磨料研磨抛光垫
- 一种带有过渡层和粘接层的固结磨料研磨抛光垫，包括磨料层(1)、刚性层(4)和/或弹性层(5)，磨料层(1)位于刚性层(4)上，刚性层(4)位于弹性层(5)之上，其特征是在所述的磨料层(1)和刚性层(4)之间还设有过渡层(...
- 朱永伟李军左敦稳李茂孙玉利叶剑锋蒋毕亮
- 硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液
- 一种硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液，其特征在于它是由腐蚀剂0.5%-40%，腐蚀抑制剂0.5%-20%，表面活性剂0.5%-15%，pH调节剂0.1%-10%以及去离子水组成。无磨料抛光液不含任何磨料，对被抛光材料表...
- 李军朱永伟左敦稳张彦高平蒋毕亮杨涛周睿洋王军
- 文献传递
- 硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液
- 一种硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液，其特征在于它是由腐蚀剂0.5%-40%，腐蚀抑制剂0.5%-20%，表面活性剂0.5%-15%，pH调节剂0.1%-10%以及去离子水组成。无磨料抛光液不含任何磨料，对被抛光材料表...
- 李军朱永伟左敦稳张彦高平蒋毕亮杨涛周睿洋王军
- 带有过渡层和粘接层的固结磨料研磨抛光垫
- 一种带有过渡层和粘接层的固结磨料研磨抛光垫，包括磨料层(1)、刚性层(4)和/或弹性层(5)，磨料层(1)位于刚性层(4)上，刚性层(4)位于弹性层(5)之上，其特征是在所述的磨料层(1)和刚性层(4)之间还设有过渡层(...
- 朱永伟李军左敦稳李茂孙玉利叶剑锋蒋毕亮
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