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马鑫

作品数:8 被引量:0H指数:0
供职机构:沈阳中科博微自动化技术有限公司更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:环境科学与工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 6篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 5篇统计过程
  • 4篇数据库
  • 4篇历史数据
  • 4篇历史数据库
  • 3篇统计过程控制
  • 3篇半导体
  • 2篇电路
  • 2篇电路工艺
  • 2篇软件实现
  • 2篇数据驱动
  • 2篇机读
  • 2篇集成电路
  • 2篇集成电路工艺
  • 2篇加工工序
  • 2篇过程控制
  • 2篇半导体生产
  • 2篇标准值
  • 1篇镀膜
  • 1篇镀膜工艺
  • 1篇软件开发

机构

  • 8篇沈阳中科博微...

作者

  • 8篇马鑫
  • 5篇康凯
  • 5篇姬小兵
  • 4篇林跃
  • 4篇王宏
  • 3篇马秀丽
  • 2篇畅磊

传媒

  • 1篇现代计算机
  • 1篇可编程控制器...

年份

  • 2篇2015
  • 3篇2014
  • 3篇2013
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
一种数据驱动的集成电路工艺设备异常预警技术方法
一种数据驱动的集成电路工艺设备异常预警技术方法,包括如下步骤:步骤1,对于处于受控状态下的集成电路工艺设备进行监控,并根据监测出的异常对设备提出预警;步骤2,首先从历史数据库中随机读取若干设备加工工艺关键监控参数样本值,...
王宏马鑫林跃康凯姬小兵
文献传递
一种数据驱动的集成电路工艺设备异常预警技术方法
一种数据驱动的集成电路工艺设备异常预警技术方法,包括如下步骤:步骤1,对于处于受控状态下的集成电路工艺设备进行监控,并根据监测出的异常对设备提出预警;步骤2,首先从历史数据库中随机读取若干设备加工工艺关键监控参数样本值,...
王宏马鑫林跃康凯姬小兵
文献传递
一种用于半导体生产加工过程监控的统计过程控制方法
本发明公开一种用于半导体加工过程监控的统计过程控制方法,步骤如下:步骤1,选择半导体生产加工中需要监测的工序并确定工序的关键技术质量参数,分析确定能够影响质量参数的因素;步骤2,历史数据库查找并导入质量参数数据,对质量参...
王宏马鑫林跃康凯姬小兵
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应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法
本发明公开一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法,包括以下步骤:步骤1:求出当前样本值与标准值的差值。步骤2:用累积和乘以加权值。步骤3:将步骤2与步骤3中的结果相加得到新的累积结果。步骤4:如果累积和超...
康凯马鑫敖鹏蛟马秀丽胡守一畅磊
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基于累积和控制图的监控软件开发
2013年
统计过程控制是保证现代生产制造业产品或服务质量水平的重要工具。传统的统计过程控制图对于监控过程出现大波动有很好的效果,但是对于过程的小波动并不灵敏。累积和控制图对过程出现的小偏移应用累积放大原理,能够及时的发现偏移并产生报警,避免产生严重的后果。本文对累积和控制图的原理和实现工具做了说明。给出了计算机实现累积和控制图比较完整的设计方案,此方案可以完成对统计过程控制系统的搭建,实现对过程的监控预警。
马鑫敖鹏蛟
关键词:软件实现
基于SPC的计算机辅助监控系统的设计与实现
2013年
指数加权移动平均(EWMA)控制图是针对传统的统计过程控制图对稳定过程出现小偏移无法及时发现而提出的。传统的统计过程控制图对于过程出现较大的波动能够及时地发现并给出报警,但是对于过程在稳定状态出现的小偏移却不能够及时地检测出来。EWMA控制图采取对过程已有的偏差加权的形式,将已有的偏差计入当前统计量,从而实现对过程出现的小偏差的检测报警功能。给出计算机实现EWMA的完整设计方案,用于构建过程的实时监控系统,监测过程的小偏移并及时报警。
马鑫马秀丽
关键词:SPC软件实现
一种用于半导体生产加工过程监控的统计过程控制方法
本发明公开一种用于半导体加工过程监控的统计过程控制方法,步骤如下:步骤1,选择半导体生产加工中需要监测的工序并确定工序的关键技术质量参数,分析确定能够影响质量参数的因素;步骤2,历史数据库查找并导入质量参数数据,对质量参...
王宏马鑫林跃康凯姬小兵
文献传递
一种半导体镀膜工艺的统计过程监控方法
本发明涉及一种半导体镀膜工艺的统计过程监控方法,该方法包括:根据给定的膜厚标准值和标准差,建立针对检测受控过程错误和非受控过程错误两个统计过程控制图,对镀膜工艺的加工过程是否异常做两次判定;使用针对受控过程错误的控制图对...
姬小兵敖鹏蛟马鑫马秀丽胡守一畅磊
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共1页<1>
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