刘利新
- 作品数：2 被引量：6H指数：2
- 供职机构：兰州大学物理科学与技术学院电子材料研究所更多>>
- 发文基金：表面工程技术国家级重点实验室基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响被引量：3
- 2012年
- HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系。薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响。所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级。薄膜的折射率在1.92～2.08范围内变化,透过率大于85%。结果表明,这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜。此外,通过Tauc公式推出光学带隙在5.150～5.433eV范围内变化,表明样品是良好的绝缘体。
- 马紫微苏玉荣谢毅柱赵海廷刘利新李健谢二庆
- 衬底温度对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响被引量：4
- 2010年
- 采用直流磁控反应溅射法,分别在室温,200,300,400和500℃下制备了HfO2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、椭圆偏振光谱(SE)和紫外可见光谱(UVvis)研究了衬底温度对HfO2薄膜的晶体结构和光学性能的影响。XRD研究结果显示:不同衬底温度下制备的HfO2薄膜均为单斜多晶结构;随衬底温度的升高,(-111)面择优生长更加明显,薄膜中晶粒尺寸增大。SE和UVvis研究结果表明:随衬底温度升高,薄膜折射率增加,光学带隙变小;制备的HfO2薄膜在250～850nm范围内有良好的透过性能,透过率在80%以上。
- 赵海廷马紫微李健刘利新张洪亮谢毅柱苏玉荣谢二庆
- 关键词：衬底温度晶体结构直流磁控反应溅射光学带隙
