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陈建新

作品数:1 被引量:3H指数:1
供职机构:广东工业大学机电工程学院更多>>
发文基金:广东省科技计划工业攻关项目国家自然科学基金广东省自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇研磨
  • 1篇氧化铝
  • 1篇氧化铝陶瓷
  • 1篇氧化铝陶瓷基...
  • 1篇陶瓷
  • 1篇陶瓷基
  • 1篇陶瓷基片
  • 1篇抛光
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇基片
  • 1篇减薄
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇材料去除率
  • 1篇粗糙度

机构

  • 1篇广东工业大学

作者

  • 1篇阎秋生
  • 1篇潘继生
  • 1篇陈建新

传媒

  • 1篇机电工程技术

年份

  • 1篇2016
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
氧化铝陶瓷基片高效减薄和超光滑抛光加工研究被引量:3
2016年
对氧化铝陶瓷基片进行了系统的单面研磨抛光和双面研磨抛光试验,结果表明,单面研磨抛光相对双面研磨抛光具有明显的效率优势,获得单面研磨的优化条件为:研磨压力15.19 kPa,研磨转速40 r/min,研磨液流量10 ml/min,研磨液浓度8wt%;以粒度W40、W20和W5的金刚石磨料在优化工艺条件下进行粗研磨、半精研磨和精研磨,减薄加工获得表面粗糙度Ra0.12μm的研磨片,进而采用W0.5的SiC磨料进行单面抛光可以获得平均表面粗糙度Ra10 nm的光滑表面。
陈建新阎秋生潘继生
关键词:氧化铝陶瓷基片研磨抛光材料去除率表面粗糙度
共1页<1>
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