高飞
- 作品数：7 被引量：11H指数：2
- 供职机构：湖南信息工程职业技术学院更多>>
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- 掺铜TiO2薄膜的制备及结构与光学性能的研究被引量：5
- 2009年
- 采用双靶直流磁控共溅射法制备了掺铜TiO2薄膜,通过控制Cu靶的溅射功率改变Cu的掺杂量,研究了掺铜对TiO2薄膜的结构、光吸收及光催化性能的影响。结果表明:掺Cu能够改善薄膜的表面形貌与结晶质量,提高薄膜的光吸收性能。随着掺铜量的增加,TiO2薄膜的锐钛矿(101)衍射峰越来越强,且吸收边逐渐红移。Cu靶的溅射功率大于3 W,薄膜中就会出现CuO晶相。掺Cu后,TiO2薄膜的光催化性能明显增强。随着Cu的溅射功率的增大,TiO2薄膜的光催化性能先增强,后减弱。Cu的溅射功率为5 W的样品光催化性能最好。
- 高飞吴再华刘晓艳
- 关键词：TIO2薄膜铜掺杂
- TiO/_2薄膜的制备及其光学性能的研究
- TiO/_2的化学性质比较稳定且成本低、无毒，使它成为最有应用潜力的一种光催化剂。纳米技术的出现为TiO/_2的光催化领域注入了新的活力，纳米TiO/_2具有明显的表面效应和量子尺寸效应，从而使其在光作用下有更强的氧化-...
- 高飞
- 关键词：直流磁控溅射氧分压金属离子掺杂光催化特性
- 文献传递
- 氧分压对TiO_2薄膜微观结构与光吸收性能的影响被引量：3
- 2008年
- 采用直流磁控溅射法在不同氧分压下制备TiO2薄膜;研究氧分压对TiO2薄膜的表面形貌、晶体结构、化学组分及光吸收性能的影响。研究结果表明:Ti在所有样品中均以+4价态存在;随着氧分压的增大,TiO2薄膜颗粒逐渐变大,薄膜的结晶质量随着氧分压的增大逐渐提高;在吸收光谱中,300 nm附近的紫外吸收峰随着氧分压的增大而减弱,在330～465 nm范围内出现1个吸收谷,且该吸收谷随着氧分压的增大而减小,当氧分压达到0.8 Pa时,吸收谷基本消失。
- 杨兵初高飞刘晓艳张丽
- 关键词：TIO2薄膜氧分压
- 氧分压对ZnO薄膜结构与光学性能的影响
- 2007年
- 采用直流磁控溅射法在不同氧分压下制备了ZnO薄膜。用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)仪、荧光分光光度计、紫外-可见分光光度计对样品进行检测。实验表明,氧分压对ZnO薄膜的结构与光学性能影响很大。在样品的光致发光谱中,均只发现了520 nm附近的绿色发光峰,该峰随着氧分压的增大而增强。不同氧分压制备的ZnO薄膜中,氧分压为0.25Pa的样品结晶性能最好,透过率最高。
- 杨兵初刘晓艳高飞
- 关键词：直流磁控溅射ZNO薄膜氧分压
- 氮气中退火对ZnO薄膜结构与光学性能的影响被引量：2
- 2007年
- 采用直流磁控溅射法制备了ZnO薄膜,并将样品在氮气中进行了退火。对样品的表面形貌、结构性能、发光特性、透射光谱分别进行了检测。结果表明:退火后,样品的结晶质量提高,光致发光峰增强,在可见光范围内的平均透过率也有所增加。计算表明:退火后ZnO薄膜的禁带宽度略有减小。这可能是氮掺入ZnO薄膜后,N2p与O2p形成杂化轨道,二者能带部分重叠,从而使价带变宽、禁带变窄。
- 杨兵初高飞刘晓艳
- 关键词：直流磁控溅射ZNO薄膜
- ZnO/(Ni)薄膜的制备与发光性能的研究被引量：1
- 2008年
- 采用直流磁控溅射法制备了ZnO/(Ni)薄膜。研究了氧分压及Ni掺杂对ZnO薄膜的结构、光致发光特性及薄膜中的几种本征缺陷如氧空位(VO)、锌空位(VZn)、氧位锌(OZn)、锌位氧(ZnO)、间隙氧(Oi)、间隙锌(Zni)等浓度变化的影响。实验结果表明,随着氧分压的增大,466nm处的蓝色发光峰增强,掺Ni后蓝色发光峰也增强。通过分析,推测出蓝色发光峰可能是由ZnO薄膜中的间隙锌(Zni)点缺陷引起的。
- 高飞吴再华刘晓艳
- 关键词：ZNO薄膜光致发光
