周红
- 作品数：20 被引量：22H指数：3
- 供职机构：浙江工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金浙江省自然科学基金浙江省教育厅科研计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程自动化与计算机技术更多>>
- 基于多协议转换的工厂物联网系统设计
- 随着工业设备的升级转换，工业生产也慢慢向智能化转型，但现有工业生产模式依旧传统，单一的工业生产流水线上操作，往往存在信息的传递效率慢、综合生产管理不够完善等问题，导致实际生产效率较低，无法与计划进度相匹配。针对上述问题的...
- 周红
- 关键词：工业物联网MODBUS协议PROFIBUS-DP协议
- 蓝宝石光纤端面上ZnO薄膜的温变特性被引量：2
- 2010年
- 为了能利用半导体材料ZnO对光谱曲线随温度变化而移动的原理设计一种光纤温度传感器,因此有必要对生长在光纤端面上的ZnO材料的温变特性的进行研究。基于ZnO材料的测温原理,利用电子束蒸发技术在蓝宝石光纤端面上生长ZnO薄膜,并设计了一种具有低插入损耗的光纤检测系统用于光学性能的分析。光谱测试结果显示,蒸镀在蓝宝石光纤端面上的ZnO薄膜具有陡峭的光学吸收边,随着温度的升高(室温～450℃),ZnO薄膜的禁带宽度减小,吸收边向长波长方向移动,符合半导体材料的温变特性。同时随着温度的升高,平均的透射率有一定的减小。ZnO薄膜温变特性的研究,将为进一步研制以ZnO镀膜为敏感材料的新型光纤温度传感器打下良好的基础。
- 周红
- 关键词：温度传感器ZNO薄膜
- 围绕自主探究能力的培养 构建开放实验教学新体系被引量：2
- 2013年
- 文章分析了大学物理实验教学的现状,为了加强实践教学,切实提高学生的自主探究能力,提出了构建开放实验教学的新模式,并就实验教学的实施方案和实验的运行机制提出设想。
- 周红
- 关键词：实验教学改革
- 工艺条件对电沉积CoPtW合金成分的影响被引量：4
- 2004年
- 报道了以钨酸钠、硫酸钴和二亚硝酸二胺铂为主盐、以柠檬酸盐为络合剂电沉积钴铂钨合金的工艺过程。研究了镀液中钨盐浓度、络合剂浓度、电流密度、镀液温度等沉积条件对钴铂钨合金成份的影响。结果表明 ,在实验条件下 ,镀液中钨盐含量的增加、电流密度的增大和镀液温度的升高都会引起合金镀层中的钨含量增大。络合剂用量的增加使合金镀层中的钨含量下降 。
- 崔玉建葛洪良黄丽红周红韩雁冰刘亚丕
- 关键词：电沉积
- SiAlN_x薄膜的应力释放模式及力学性能研究
- 2014年
- 利用低辐射镀膜玻璃专用的镀膜生产线,在6 mm白玻衬底上制备出SiAlNx薄膜,研究了薄膜在退火之后的内应力释放模式及其力学性能。结果表明:退火后的SiAlNx薄膜存在较大的残余压应力,伴随着压应力的释放,薄膜中出现电话线形屈曲结构;屈曲结构从薄膜边缘产生,并逐渐往样品中心区域扩展;在电话线屈曲的传播过程中,屈曲的各结构参量(包括波长、振幅、宽度等)均发生了明显演化。基于连续弹性理论,对电话线屈曲的结构特征和生长演化进行了分析,并估算了薄膜的内应力和膜基结合能。
- 周红余森江陈君陈苗根
- 关键词：低辐射镀膜玻璃内应力
- 沉积在硅油表面铜薄膜的特征表面形貌被引量：1
- 2009年
- 采用真空蒸发方法在硅油表面制备了一种具有自由支撑边界条件的铜薄膜系统并研究了其成膜机理和带状有序结构。实验发现:此类铜薄膜的生长机制近似服从二阶段生长模型。进一步实验发现:铜分枝状凝聚体在大气中作无规扩散和旋转,直到在某处堆积或者连接。在该连续铜薄膜系统中,我们观察到了带状有序结构。该有序结构是由一系列长度基本一致而宽度不尽相同的平行键块组成。实验结果表明:该有序结构是在样品被取出真空腔之前,由于液体基底的收缩导致薄膜压应力而形起的。理论推测铜薄膜中可能同时存在一系列不同类型的正弦型内应力分布,而这种内应力分布最终导致带状有序结构的形成。
- 陈苗根余森江周红
- 关键词：铜薄膜液体基底表面形貌
- 在蓝宝石光纤端面上生长ZnO薄膜的方法及光学性能分析
- 利用ZnO薄膜的光学吸收边随温度变化的光学特性制备紫外温度传感器是光学探测器研究中的一个重要领域,而在光纤端面上制备高质量的ZnO薄膜是该类实用器件的基础和关键。实验利用电子束蒸发技术在蓝宝石光纤端面上生长具有良好的c轴...
- 周红隋成华陈乃波许晓军魏高尧蔡萍根
- 关键词：ZNO薄膜蓝宝石光纤
- 文献传递
- 单缝衍射相对光强在轴线上的探讨被引量：1
- 2005年
- 利用高灵敏光电传感器和旋转运动传感器的组合,记录了单缝的夫琅和费衍射的相对光强的分布规律,并对实验现象进行了一定的探讨。
- 周红
- 一种基于改进的TLBO算法的电动车充电桩的布局方法
- 本发明公开一种基于改进的TLBO算法的电动车充电桩的布局方法，该方法通过计算从用户需求到充电桩的K距离，并将K距离的邻域点保存在集合N<Sub>k‑dist()</Sub>中，由已知的K距离和K距离邻域点求出K距离的平均...
- 王宪保周红王辛刚
- 文献传递
- Si_(90)Al_(10)N_x薄膜的工艺控制及光学性能研究
- 2013年
- 通过改变磁控溅射过程中氩气与氮气(Ar/N2)的分压比,制备了多种不同厚度的Si90Al10Nx薄膜样品,并采用透射率轮廓法对样品在热处理前后的光学性能(包括折射率和消光系数)进行了测量和分析。结果表明,样品的光学性能可通过调整Ar/N2的流量比、薄膜厚度、退火条件等工艺参数加以控制。
- 陈君周红余森江
- 关键词：磁控溅射折射率消光系数分压比
