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康杰

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇氮分压
  • 1篇电阻
  • 1篇电阻温度系数
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇红外
  • 1篇红外场景产生...
  • 1篇红外仿真
  • 1篇方阻
  • 1篇仿真
  • 1篇TAN
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 2篇电子科技大学

作者

  • 2篇康杰
  • 1篇张万里
  • 1篇吴传贵
  • 1篇向阳
  • 1篇王超杰

传媒

  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 2篇2009
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
用于动态红外场景产生器的TaN薄膜研究
红外场景产生器是红外仿真系统的核心，以电阻阵列作为红外发射源是发展红外场景产生器的主要技术之一，具有低功耗、大温度范围、高分辨率、高占空比等优点，受到人们极大的关注。氮化钽薄膜由于具有低的电阻温度系数、相对较低的热导率、...
康杰
关键词：红外场景产生器红外仿真
文献传递
氮分压对磁控溅射制备TaN薄膜性能的影响被引量：1
2009年
采用直流反应磁控溅射法制备了TaN薄膜,研究了φ(N2)对薄膜的结构和性能影响。研究发现,在N2分压(体积分数)为9%时,多相共存的TaN薄膜表现出TaN(200)面择优取向,方阻和αt达到最佳,其值为52Ω/□和–306×10–6/℃。薄膜的方阻、电阻温度系数αt和晶粒尺寸都随着N2分压的增大而增大:当N2分压高于11%时,薄膜的方阻和αt增长较快。
康杰张万里吴传贵向阳王超杰
关键词：磁控溅射方阻电阻温度系数
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