平杰红
- 作品数：26 被引量：2H指数：1
- 供职机构：中国原子能科学研究院更多>>
- 相关领域：核科学技术自动化与计算机技术电子电信一般工业技术更多>>
- 制备<Sup>147</Sup>Pm高活度源的粉末冶金工艺
- 本发明提供了一种降低原材料用量、降低活性层的自吸收，使放射源达到最大利用率，活度大于350mCi的<Sup>147</Sup>Pm辐射源的改进的粉末冶金制备方法。该工艺包括下列步骤：(1)混合、搅拌、(2)烘烤、(3)成...
- 孙玉华简利民冯嘉敏许荣旺李士英平杰红段利民
- 文献传递
- 一种气态氚光源玻璃管激光封割系统
- 本发明涉及一种气态氚光源玻璃管激光封割系统，包括夹持系统和激光系统；所述夹持系统带动气态氚光源玻璃管旋转和移动；所述激光系统对所述气态氚光源玻璃管进行封割。本发明的有益效果如下：通过可控的激光技术，保证激光能量在封割玻璃...
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- 文献传递
- 一种用于饼型同位素光源的激光动态封割方法
- 本发明涉及一种用于饼型同位素光源的激光动态封割方法，属于同位素光源封割技术领域，包括以下步骤：S1、在饼型同位素光源主体内壁涂覆荧光粉，将玻璃管出口与过渡金属管焊接，金属管另一端与不锈钢金属管焊接；S2、将不锈钢金属管与...
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- 平面放射性光源荧光层的制备及发光性能研究
- 涂覆工艺是制备平面放射性光源的关键技术之一，目的是为平面放射性光源提供高质量的荧光涂层，提高对放射性物质的利用率.采用沉积法制备荧光层，并对荧光层的影响因素进行了研究和优化，最后充入放射性物质，得到在β粒子激发下的光输出...
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- 关键词：涂覆工艺均匀性发光亮度
- 动态激光封割气态放射性同位素光源的多物理场耦合仿真研究
- 2023年
- 动态激光封割气态放射性同位素光源涉及传热、熔化、流动、汽化、固化、旋转等复杂动态物理过程,物理过程之间相互影响,且受到较多工艺参数的影响,必须采用多物理场耦合仿真方法进行研究。采用COMSOL Multiphysics,建立数学模型,开展动态激光封割工艺过程仿真,考察高硼硅玻璃管壳转速、激光功率对温度分布、熔池形貌的影响。研究发现:玻璃管壳转速越快,熔池区域越小,封割所需时间越长;气态放射性同位素光源玻璃管壳被辐照区域最高温度约为1600℃;当激光功率为15 W、玻璃管壳转速为400 r/min时,封割时间约为0.65 s。将模拟结果与热成像设备试验结果相对比,结果基本符合实际情况,且被辐照区域的温度分布近似呈高斯分布,与工艺过程仿真采用的激光热源分布假设相一致。
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- 四苯乙烯-三苯胺衍生物的合成、聚集荧光增强特性及其在辐致发光中的应用
- 2022年
- 传统的同位素光源(RLS)中多采用无机材料ZnS:Cu为荧光粉,其转换效率较低,限制了同位素光源的进一步应用。为了解决传统同位素光源辐光转换效率低的问题,采用聚集诱导发光(AIE)材料作为同位素光源的新型荧光材料,设计并合成了新型AIE分子四苯乙烯-三苯胺衍生物TPE-TPAO和TPE-2TPAO,通过理论计算分析两种材料的辐光转换效率,并通过扫描电子显微镜的阴极射线模拟氚放射源,测试不同电压下材料的发光性能。结果表明,TPE-TPAO和TPE-2TPAO具有典型的AIE行为,其固态绝对量子产率分别高达95.5%和74.9%。TPE-TPAO和TPE-2TPAO的理论辐光转换效率分别为28%和21%。阴极射线下,两种材料的发光强度均随着加速电压的增加而增加,同时其发光强度还与材料的发光效率和粒径相关。
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- 一种磁约束式长寿命同位素光源
- 本发明涉及一种磁约束式长寿命同位素光源，属于同位素光源技术领域，所述光源包括封装外壳，所述封装外壳为全密封结构，其内充满前驱气体；金属薄管置于所述封装外壳内，所述金属薄管内充满辐射源；在所述金属薄管的两外端面分别设置有永...
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- 文献传递
- 放射性气态光源自吸收效应研究被引量：1
- 2020年
- 放射性气态光源是利用密封在玻璃腔内的放射性气体衰变发出的β射线激发附着在玻璃管内壁上的荧光涂层而发光,根据发光机制,放射性光源的自吸收效应是影响光输出特性的因素之一,包括气体对β粒子能量的自吸收、放射源在荧光层中的沉积能量和荧光层对光输出的自屏蔽三个方面。研究和优化放射性光源的自吸收效应,是提高放射性气态光源的光亮度的研究重点。文章对此三方面进行理论分析,结果表明,放射性气态光源的自吸收效应随着放射性气体压力和荧光层厚度的增加而越来越明显,导致其光输出特性的减弱;通过对涂层结构的优化,降低了放射性光源自吸收效应的影响。
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- 关键词：光输出光亮度
- 基于TracePro的三维微结构同位素光源仿真研究
- 2023年
- 为了进一步提高同位素光源的光输出和辐光转换效率,采用Tracepro对同位素光源的三维微结构进行了设计及光学仿真,得到了三维微结构的形状、排列数量等因素对发光层辐照度分布、光线轨迹的影响。结果表明,随着三维微结构阵列数的增加,相互之间影响先增强后逐渐减弱,辐照度逐渐趋向于饱和,说明三维纳米柱发光柱之间并不是简单的堆叠,而是起到相互增强的作用,从而提高了辐照度。在同位素光源的有限空间范围内,辐照均匀性近似呈现于正方形等高分布,且光强在整个光源空间范围的均匀对称分布。
- 马俊平李思杰李雪平杰红韩月红孙玉华
- 关键词：TRACEPRO
- 平面放射性光源荧光层的制备及发光性能研究
- 涂覆工艺是制备平面放射性光源的关键技术之一,目的是为平面放射性光源提供高质量的荧光涂层,提高对放射性物质的利用率。采用沉积法制备荧光层,并对荧光层的影响因素进行了研究和优化,最后充入放射性物质,得到在β粒子激发下的光输出...
- 李思杰马俊平平杰红唐显孙玉华
- 关键词：涂覆工艺均匀性发光亮度
- 文献传递
