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含应力缓和层的硬质薄膜及其制备方法: 含应力缓和层的硬质薄膜及其制备方法，通过在金属氮化物薄膜中，每隔一定间隔加入一定厚度的同样金属层构成的多层结构来降低薄膜的内部应力，防止薄膜从基体脱落。该多层膜是由沉积氮化物和沉积金属层两个过程重复交替进行而成。本发明可...; 聂朝胤田鹏曲燕青张碧云; 文献传递

电弧离子镀TiN薄膜的往复滑动摩擦学行为研究被引量：2: 2008年; 采用电弧离子镀技术在不锈钢基片上沉积了TiN薄膜,利用显微硬度计测量了薄膜的表面硬度。采用球-盘式摩擦磨损实验机对比研究了基片和薄膜在与GCr15配副的情况下,二者在空气中干磨擦状态下的摩擦磨损性能;利用扫描电镜(SEM)、能量衍射谱仪(EDS)和表面粗糙度台阶轮廓仪对薄膜的磨损区域进行了微观分析。实验结果表明,随着法向载荷和往复速率的增大,薄膜和基体的摩擦系数都减小,但薄膜的摩擦系数始终小于基体的摩擦系数。不锈钢基体与GCr15配副时,基体磨损较大,此时的磨损机制是犁削磨损和磨料磨损;而TiN薄膜与GCr15配副时,薄膜不仅无磨损,而且其表面将形成一层具有润滑作用的移着膜,此时的磨损机制主要是磨料磨损,因此在不锈钢基体上沉积TiN薄膜有利于提高基体的耐磨性。; 张碧云聂朝胤谢红梅杨娟; 关键词：电弧离子镀氮化钛薄膜摩擦学性能

类金刚石膜的制备技术及应用领域概况被引量：20: 2007年; 简要介绍了类金刚石膜的结构,综述了类金刚石膜的传统制备方法以及其制备方法的基本原理和优缺点,同时介绍了几种近年发展起来的新兴制备方法,与传统制备方法相比,它更能提高膜的沉积速率和质量。总结了类金刚石膜在机械、电子、光学、医学、航空等领域的应用状况。同时指出,随着DLC技术上的成熟,其必将在更多领域发挥越来越大的作用。; 张碧云曲燕青谢红梅聂朝胤; 关键词：类金刚石

非平衡磁控溅射掺Ti类金刚石薄膜的结构分析被引量：13: 2007年; 采用非平衡磁控溅射沉积技术在SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了无氢Ti掺杂类金刚石(Ti-DLC)薄膜和无氢高纯类金刚石(DLC)薄膜,通过调节Ti靶的溅射功率使获得的Ti-DLC薄膜Ti含量(原子分数)为1.9%—34%.利用Raman分光光谱仪、XPS,XRD、显微硬度计及纳米划痕仪分析研究了Ti-DLC的组织结构、显微硬度及薄膜附着力.结果表明,利用非平衡磁控溅射得到的Ti-DLC薄膜,在Ti含量小于25%时,Ti-DLC薄膜仍具有类金刚石薄膜的sp^2,sp^3结构,但Ti的掺杂促进了sp^3键向sp^2键的转变.掺杂的Ti以TiC纳米晶的形式存在于非晶态的DLC中.掺杂Ti后薄膜的硬度明显降低,而薄膜附着力明显改善;但是当Ti含量超过3%后,薄膜附着力无明显变化,硬度逐渐回升.; 聂朝胤张碧云谢红梅; 关键词：非平衡磁控溅射微观结构显微硬度附着力

电弧离子镀TiN薄膜的制备及其特性研究: 氮化钛薄膜是二十世纪八十年代以来发展最快的硬质薄膜，它可以成倍地提高切削刀具和模具的寿命，改善加工表面质量，减少摩擦系数，降低切削刃部的升温，而且允许切削速度大幅度增加的同时能获得很好的加工精度和效率，在机械加工行业获得...; 张碧云; 关键词：氮化钛薄膜电弧离子镀摩擦学性能切削刀具; 文献传递

类金刚石薄膜的耐热性研究进展被引量：2: 2007年; 类金刚石薄膜具有良好的物理化学性能、光电性能、机械性能及摩擦学性能。但是在高于400℃的温度条件下,DLC膜易向石墨结构转变,从而阻碍了其在高温条件下的应用。因此关于类金刚石薄膜耐热性的研究是目前的一个热门研究课题。在综合分析近年来该领域研究的基础上总结了影响DLC膜耐热性的3种因素:膜结构、掺杂、制备方法,并分析了各种因素的影响机理。; 谢红梅聂朝胤张碧云曲燕青; 关键词：类金刚石膜石墨耐热性

金属和陶瓷配副件条件下TiN薄膜的摩擦学特性被引量：5: 2008年; 多弧离子镀TiN薄膜具有广泛的应用。采用多弧离子镀技术在不锈钢衬底表面沉积了TiN薄膜。用显微硬度计测试了TiN薄膜的硬度,用往复球-盘式摩擦磨损试验机评价了在GCr15和S i3N4两种不同配副件及空气中干摩擦条件下TiN薄膜的摩擦学性能,用表面轮廓仪测试了磨痕处的磨痕轮廓,用配有能谱仪(EDS)的扫描电镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)观察和测试了磨痕形貌和磨痕处主要化学元素组成,用金相显微镜观察了配副件磨损表面形貌。结果表明:在不同配副件条件下,TiN薄膜的摩擦因数随速度和载荷的增加均出现了降低的趋势。而在相同速度和载荷下,以GCr15为配副件时TiN薄膜的摩擦因数小于以S i3N4为配副件时的摩擦因数。以S i3N4为配副件时TiN薄膜主要表现为磨粒磨损。以GCr15为配副件时TiN薄膜几乎没有磨损,而配副件GCr15主要表现为磨粒与粘着磨损。; 谢红梅张碧云卢春灿聂朝胤; 关键词：TIN薄膜摩擦学特性

一种提高硬质涂层与基体界面结合强度的方法: 本发明公开了一种提高硬质涂层(薄膜)与基体界面结合强度的方法，该方法将硬质涂层/基体复合体系于-50℃～-273℃的低温或超低温下处理5～48小时实现。硬质涂层包括TiN、CrN、TiAlN、TiSiN、CrAlTiN、...; 聂朝胤张碧云谢红梅贾晓芳刘晓魁林华; 文献传递

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张碧云