张新宇
- 作品数：28 被引量：89H指数：6
- 供职机构：华中科技大学自动化学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金湖北省自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学生物学更多>>
- 用于测量和调控入射光偏振态的大面积阵列液晶器件(英文)被引量：4
- 2014年
- 介绍了一种通过改变电极上的驱动电压来测量和调控入射光偏振态的液晶器件,同时模拟了该器件的液晶分子指向矢分布。众所周知,液晶分子的倾斜角较容易控制,却常忽视其扭曲角同样可以被调控。所以,液晶材料能够用作可变化、可转动的相位延迟器,这样就可以实现用同一器件结构测量入射光偏振态,随后调控该入射光偏振态。模拟了在十字结构电极下液晶层的指向矢分布,表明扭曲角可被电控,同时也说明将入射光偏振态调控到任意偏振态是可以实现的。
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- 关键词：液晶偏振态阵列器件
- 采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜被引量：1
- 2007年
- 采用单步光刻和湿法腐蚀工艺,低成本快速制作面向高性能蓝光和红光DVD光学头物镜的衍射微透镜.所制微光学结构的表面粗糙度在纳米量级,衍射相位台阶的高度在亚微米量级并可以根据需求灵活调整,通光孔径在毫米至厘米量级的范围内可调.组成衍射微透镜的大量基本相位结构,可以根据入射和出射光束的形貌特征及参数指标,通过衍射积分算法灵活设置和排布.远场光学测试显示了所制衍射微透镜的高衍射效能.
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- 太赫兹波光谱特性分析被引量：10
- 2012年
- 目前太赫兹技术的研究主要集中在它的产生、探测机理研究上。由于太赫兹波处于微波和可见光之间的频率范围,已有的微波和光波理论是否能适用于太赫兹波或者具有某些共同的特性仍需实验验证。通过实验分析验证了太赫兹波在空气介质中在垂直于传播方向的平面内场振幅是服从高斯函数分布的,测量给出了太赫兹波的能量分布图。根据测试数据推导出太赫兹波在空气介质中能量衰减公式,利用法布里-珀罗(F-P)干涉仪原理设计出太赫兹波长仪,对美国Corehent公司SIFIR-50THz太赫兹激光器发射的1～3THz波长进行了测量。讨论分析了远场发射角、光束入射角度、机械振动、温度波动和折射率n波动等相关因素对测量精度的影响。
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- 关键词：法布里-珀罗干涉仪太赫兹波
- 凹折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作被引量：12
- 2001年
- 利用光刻热熔成形工艺及离子束刻蚀制作 12 8× 12 8元凹微透镜阵列。所制硅及石英凹微透镜的典型基本图形分别为凹球冠形、凹柱形和矩顶凹面形。分析了在光致抗蚀剂柱凹微透镜图形制作过程中的膜系匹配特性 ,与制作该种微透镜有关的光掩模版的主要结构参数 ,以及光致抗蚀剂掩模工艺参数的控制依据等。探讨了在凹微透镜器件制作基础上利用成膜工艺开展平面折射微透镜器件制作的问题。采用扫描电子显微镜 (SEM)和表面轮廓仪测试了所制石英凹微透镜阵列的表面微结构形貌。给出了所制石英凹微透镜阵列远场光学特性的测试结果。
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- 关键词：离子束刻蚀光学材料
- 提高抗激光烧蚀能力的表面尖形微结构器件被引量：1
- 2001年
- 讨论了光刻热熔成形工艺灰度掩模技术结合离子束蚀刻制作面阵尖形微结构器件的问题 ,分析了几种凸尖及凹尖结构抗入射激光烧蚀的能力强于平面端面同质器件的原因 ,所作的若干分析结果可用于这类器件的实际制作和应用。
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- 关键词：离子束蚀刻微结构器件
- 用于微器件制作的灰度掩模技术被引量：3
- 2001年
- 讨论了灰度掩模技术在凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形阵列等器件制作方面的应用 ,给出了与几种典型的凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形结构对应的灰度掩模板的设计实例及其应用 ,为灰度掩模技术制作微透镜器件及微尖形阵列奠定了基础。
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- 关键词：灰度掩模微透镜阵列微器件
- 非梯度折射率型面阵平面微透镜被引量：1
- 2001年
- 采用常规的光刻热熔法及灰度掩模技术 ,结合离子束蚀刻与溅射制作面阵非梯度折射率型平面折射和平面衍射微透镜 ,定性分析了不同的工艺条件下所得到的平面端面微光学器件的种类和形貌特征 ,给出了在石英衬底表面通过光刻热熔工艺和氩离子束蚀刻所得到的两种球面及圆弧轮廓特征的面阵凹形掩模的表面探针测试曲线 ,对平面微透镜阵列与IRCCD成像芯片和半导体激光器阵列的集成结构作了初步分析。
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- 关键词：离子束蚀刻溅射光刻
- 用于近场集成光学头的面阵平面微透镜被引量：1
- 2002年
- 讨论了采用常规的光刻热熔法及灰度掩模技术制作非梯度折射率型平面折射和平面衍射微透镜的情况。定性地分析了在不同的工艺条件下可能得到的平面端面微光学器件的种类和形貌特征。给出了在石英衬底表面通过光刻热熔工艺和氢离子束蚀刻所得到的球面及圆弧轮廓特征的凹形掩模的SEM照片 ,并对用于近场集成光学头的平面微透镜和半导体激光器的集成结构作了初步分析。
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- 关键词：离子束蚀刻溅射
- 折射微光学结构出射复杂光学波前
- 2008年
- 通过单掩模紫外(UV)光刻、感应耦合等离子体(ICP)刻蚀及KOH∶H2O化学腐蚀,在硅片上制作5×5元面阵硅折射微光学结构.通过电化学方法将制成的硅精细图形结构转换成镍版,进而通过压制法将精细的镍版图形进一步转印到有机玻璃材料上,从而制成面阵光学波前出射结构.光刻版由结构尺寸在微米量级的大量微孔组成,其特征尺度和排布方式由算法生成.微形貌测试显示了制作的折射微光学波前出射结构具有预期的表面形貌特征.通过常规光学测试,比较和分析了出射复杂波前的情况.
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- 关键词：光电子学波前
- 解二维时间相关光子扩散方程的交替方向隐式法被引量：4
- 2003年
- 研究了应用交替方向隐式法求解非均匀生物组织中的二维时间相关光子扩散方程,并同解析解以及MonteCarlo模拟的结果作了比较,数值结果表明,该方法具有较好的稳定性和较高的精度.
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- 关键词：MONTE-CARLO模拟
