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徐冉冉

作品数:6 被引量:3H指数:1
供职机构:南昌航空大学更多>>
发文基金:江西省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 5篇电子电信

主题

  • 6篇光刻
  • 5篇光学
  • 4篇数字光刻
  • 4篇光学元件
  • 3篇掩模
  • 3篇二元光学
  • 3篇二元光学元件
  • 2篇掩模版
  • 2篇衍射
  • 2篇衍射光学
  • 2篇
  • 1篇雕刻
  • 1篇调制
  • 1篇对准标记
  • 1篇衍射光学元件
  • 1篇套刻
  • 1篇投影光刻
  • 1篇投影光刻系统
  • 1篇微雕
  • 1篇微缩

机构

  • 6篇南昌航空大学

作者

  • 6篇徐冉冉
  • 5篇龚勇清
  • 4篇颜丽华
  • 1篇方利华
  • 1篇高益庆
  • 1篇苏兆国
  • 1篇罗宁宁
  • 1篇田红彦
  • 1篇周张钰

传媒

  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇南昌航空大学...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2011
  • 4篇2010
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
利用数字光刻系统制作铬掩模的工艺被引量:2
2010年
提出一种利用基于数字微反射镜装置(DMD)的数字光刻系统制作掩模版的方法。通过制图软件制作出二元光栅、菲涅耳波带片等衍射光学元件的掩模图,将这些图形导入数字光刻机,利用DMD系统的空间光调制特性,经精缩投影曝光,在覆胶铬板上刻蚀出相应的图案,经过腐蚀及去胶得到需要的掩模版。将制作好的掩模版用于精缩光学系统,可在晶圆片上得到亚微米结构的图案,达到高分辨率的要求。该方法是将传统的光刻工艺与DMD数字化虚拟掩模的特点相结合,相对于激光束直写法和粒子束刻蚀法,可以更方便、高效、低成本地获得掩模版。
颜丽华徐冉冉龚勇清
关键词:衍射光学光栅掩模版
数字光刻微雕的制作装置及其雕刻制作方法
本发明公开数字光刻微雕的制作装置及其雕刻制作方法,它采用DMD取代传统光刻技术中的固定的掩模版。由于DMD具有空间调制特性,能生成与原版字画等艺术品一致的图案或文字,再根据光刻镜头(缩微物镜)的光学成像原理,即可将整版图...
龚勇清苏兆国周张钰龚艺川田红彦高益庆罗宁宁方利华徐冉冉
文献传递
一种基于铬膜玻璃的光刻精缩系统的研究与实现
数字光刻技术是下一代光刻的先进代表。本文提出了一种利用DMD(数字微反射镜装置)进行数字掩模光刻成像,在铬膜玻璃上制作二元光学掩模。将设计好的CAD电脑图形文件,输出到基于DMD的数字掩模成像系统,经过曝光、显影、腐蚀及...
徐冉冉颜丽华龚勇清
关键词:DMD二元光学元件数字光刻
利用数字光刻系统制作掩模版的工艺研究
本文提出一种利用基于DMD(数字微反射镜装置)的数字光刻系统制作掩模版的方法。首先通过ATUOCAD制图软件制作出二元光栅、龙基光栅、达曼光栅以及菲涅耳波带片等衍射光学元件的掩模图,然后将这些图形导入数字光刻机,利用DM...
颜丽华徐冉冉龚勇清
关键词:掩模版衍射光学元件
基于铬膜玻璃的光刻精缩系统的研究与实现
2010年
文章提出了一种利用数字微反射镜进行数字掩模光刻成像,以铬膜玻璃为基板,在其上面制作二元光学掩模。将设计好的CAD电脑图形以后缀为bmp文件格式输出,导入到基于DMD的数字掩模成像系统,经过曝光、显影、定影、蚀刻及去胶工艺即可得到需要的掩模。此掩模可用于精缩投影系统,在晶圆片上得到比掩模图形小得多的图案,以达到高分辨率的要求。
徐冉冉颜丽华龚勇清
关键词:二元光学元件
投影光刻系统套刻对准技术的研究
现代光学和IC产业的发展要求光学器件的微型化、阵列化和集中化,从而产生了微光学技术。微光学技术是光学与微电子学、微机械学相结合渗透的一个学科,是研究亚微米级尺寸光学元件或光学系统的现代光学分支。 光刻技术是大规模...
徐冉冉
关键词:投影光刻系统对准标记二元光学元件
文献传递
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