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姜晓明

作品数：1 被引量：4H指数：1
供职机构：南京大学物理学院固体微结构物理国家重点实验室更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇铁电
  • 1篇铁电薄膜
  • 1篇铁电体
  • 1篇MOCVD

机构

  • 1篇南京大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇姜晓明
  • 1篇闵乃本
  • 1篇于涛
  • 1篇修立松
  • 1篇孙力
  • 1篇陈延峰
  • 1篇修立松
  • 1篇姜晓明

传媒

  • 1篇电子显微学报

年份

  • 1篇1997
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
MOCVD制备PbTiO_3铁电薄膜的研究被引量：4
1997年
由于在动态随机存储器、传感器和探测器等器件中的应用，使铁电薄膜的制备成为研究热点。本文报道了利用低压ＭＯＣＶＤ工艺分别在（００１）取向ＳｒＴｉＯ３和重掺杂硅单晶衬底上制备ＰｂＴｉＯ３铁电薄膜的工作。通过Ｘ射线衍射、ＡＦＭ和Ｒａｍａｎ光谱对薄膜的微结构进行分析，在ＳｒＴｉＯ３衬底上获得了单畴、多畴等几种畴结构组态，从实验上证实了铁电薄膜中畴的形成与薄膜的厚度有关；得到了铁电薄膜邻位面台阶生长的实验证据；对薄膜的晶格畸变，晶格振动及自发极化的测量发现，ＰｂＴｉＯ３薄膜具有明显的“铁电弱化”现象。对上述现象。
陈延峰孙力于涛闵乃本姜晓明修立松
关键词：铁电薄膜铁电体MOCVD
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