您的位置: 专家智库 > >

赵娇玲

作品数:52 被引量:38H指数:4
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国际科技合作与交流专项项目NSAF联合基金更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 35篇专利
  • 13篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 17篇理学
  • 10篇电子电信
  • 4篇金属学及工艺
  • 4篇机械工程
  • 2篇化学工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 15篇激光
  • 13篇色散
  • 10篇光学
  • 9篇脉冲
  • 7篇啁啾
  • 7篇宽带
  • 7篇超快激光
  • 6篇应力
  • 5篇镀膜
  • 5篇极紫外
  • 5篇光学薄膜
  • 5篇高反射膜
  • 5篇波长
  • 4篇多层膜
  • 4篇色散量
  • 4篇透射
  • 4篇啁啾脉冲
  • 4篇微结构
  • 4篇脉冲传输
  • 4篇膜系

机构

  • 49篇中国科学院上...
  • 3篇上海大学
  • 3篇中国科学院大...
  • 2篇广西大学
  • 2篇同济大学
  • 2篇中国科学院
  • 1篇深圳大学
  • 1篇国科大杭州高...

作者

  • 52篇赵娇玲
  • 35篇邵建达
  • 29篇朱美萍
  • 23篇易葵
  • 21篇王胭脂
  • 13篇孙建
  • 11篇王建国
  • 11篇张伟丽
  • 10篇贺洪波
  • 9篇邵宇川
  • 8篇王涛
  • 7篇李静平
  • 6篇赵元安
  • 6篇齐红基
  • 5篇晋云霞
  • 5篇崔云
  • 5篇刘晓凤
  • 4篇陈宇
  • 4篇郭猛
  • 3篇王虎

传媒

  • 5篇光学学报
  • 3篇中国激光
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇理化检验(物...
  • 1篇深圳大学学报...
  • 1篇广西物理

年份

  • 6篇2024
  • 4篇2023
  • 7篇2022
  • 10篇2021
  • 11篇2020
  • 1篇2019
  • 3篇2018
  • 2篇2017
  • 5篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2013
  • 1篇2012
52 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
磁控共溅射制备Si掺杂Al薄膜的应力研究被引量:2
2020年
为研制真空紫外与极紫外波段Al基薄膜光学元件,详细研究了Al基薄膜的应力特性及其优化方法。利用应力实时测量装置对共溅射技术制备的5种不同Si掺杂质量分数(0、8.97%、16.49%、28.46%、45.73%)的Al-Si复合薄膜进行应力测试,并采用X射线衍射法表征薄膜的结晶状态。结果表明:Al薄膜中的应力表现为压应力,随着Si在Al中掺杂量的增加,Al中的压应力减小,并且Al的结晶度降低,Al(111)晶向的晶粒尺寸也减小,Al的结晶被抑制;当Si的掺杂质量分数从18.63%增大到31.57%时,Al中的压应力转变为张应力,且张应力随Si掺杂量的增加而进一步增大。本研究为制备Al基滤片、单层膜和多层膜元件提供了技术支撑,在极紫外光刻、同步辐射和天文观测领域具有重要的应用价值。
朱京涛周涛朱杰赵娇玲朱航宇
关键词:真空紫外应力
基于低表面能材料共溅射降低短波长多层膜界面宽度的方法
一种基于低表面能材料共溅射降低短波长多层膜界面宽度的方法,利用超高真空磁控溅射交替沉积纳米精度(A<Sub>x</Sub>M<Sub>1‑x</Sub>/B)^<Sup>n</Sup>多层膜材料,A和B分别代表高原子序数...
赵娇玲朱美萍张嘉怡武振清易葵王虎曾婷婷李笑然贺洪波邵建达
宽带高阈值组合介质低色散镜结构及其设计方法
一种宽带高阈值组合介质低色散镜结构及其设计方法。宽带高阈值组合介质低色散镜的结构为G/M/N/A,其中G代表基底层,M代表宽带介质膜层,N代表高阈值介质膜层,A代表空气层。所述的介质膜系结构由高折射率材料和低折射率材料交...
王胭脂张宇晖陈瑞溢郭可升王志皓朱美萍张伟丽王建国孙建赵娇玲朱晔新晋云霞易葵邵建达
文献传递
一种大尺寸光学元件镀膜夹具和装夹方法
一种大尺寸光学元件的镀膜夹具及装夹方法,所述的镀膜夹具包括框架结构和方形支撑结构,方形支撑结构四边各由支撑板、缓冲条、加强筋、定位块和螺栓组成,加强筋、缓冲条、支撑板和定位块设有多个螺栓通孔,框架结构内侧面具有多个螺栓通...
朱美萍邵建达李静平孙建赵娇玲王建国易葵
文献传递
抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法
一种抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法,在制备含有氧化铪膜层的多层光学薄膜时,镀制氧化铪的同时掺入氧化硅材料一同镀制形成氧化铪‑氧化硅混合膜层,抑制纯氧化铪膜层的折射率非均匀性,进而改善由于氧化铪膜层折射率非均匀性导致多...
孙建朱美萍赵泽成易葵张伟丽王建国王胭脂李静平赵娇玲邵宇川邵建达
文献传递
一种薄膜分束镜
本实用新型公开了一种薄膜分束镜。本实用新型的薄膜分束镜包括透射膜基底层和位于所述透射膜基底层上的反射膜,所述反射膜包括一个周期性X/Y层或多个层叠设置的周期性X/Y层,所述周期性X/Y层包括层叠设置的一层X层和一层Y层。...
李笑然赵娇玲李丰华
溶胶-凝胶法制备Si基ZnO薄膜的光伏特性
2012年
用溶胶-凝胶法在P型半导体Si(100)基片上生长了具有六角晶形的ZnO薄膜。SEM和XRD显示,C轴择优取向性明显,薄膜生长质量较好。ZnO薄膜的光致发光谱不仅有384.2nm的紫外波峰(FWHM=20.3nm),而且还有649.2nm的红光波峰(FWHM=214nm),两峰相对高度比为0.934。用波长为632.8nm的氦氖激光照射ZnO薄膜的表面,产生了明显的光伏效应。
郭晓雷赵娇玲田秦冠熊定康黄宇阳邓文
关键词:ZNO薄膜溶胶-凝胶法光伏特性
6.X nm下一代极紫外多层膜技术研究进展
2024年
集成电路的生产主要依靠光刻技术为主的工艺体系,采用波长为13.5 nm光源的极紫外光刻是当前最先进的商用规模量产光刻技术,为集成电路的发展带来前所未有的进步。根据瑞利判据,为进一步提高分辨率,以波长6.X nm为光源的下一代“超越极紫外”光刻成为研究热点。多层膜反射镜是极紫外光刻机光学系统中的关键器件,其反射率和寿命决定光刻机的曝光效率与成像质量。综述了6.X nm多层膜的研究进展,对近年来6.X nm波段的极紫外光源以及多层膜的设计、制备和表征等方面进行了介绍和分析。重点阐述了6.X nm多层膜的界面优化方法,并讨论了多层膜在工程应用中的老化和性能衰减等问题,对面向未来商业应用的方向做出了展望。旨在为我国从事先进光刻等相关研究工作的学者、工程师等提供重要参考。
李笑然唐何涛赵娇玲李丰华
关键词:多层膜反射率
空间激光薄膜制备方法
本发明属于光学薄膜技术领域,具体涉及空间激光薄膜制备方法。该方法提出一种制备空间激光薄膜的全流程技术方案,包括去除基底表面污染物和亚表面缺陷、增加抗辐照保护层,基底上镀膜,明确了各环节的技术方案和实现途径,使用本发明制备...
王胭脂王志皓张宇晖陈瑞溢许贝贝朱晔新赵娇玲邵宇川易葵贺洪波邵建达
一种低振荡色散镜结构及其设计方法
一种低振荡色散镜结构设计,由下到上依次包括基底、啁啾膜系结构、超低折射率层。本发明在啁啾膜系结构的顶部添加一层超低折射率层,该超低折射率层由倾斜沉积技术实现,通过调节倾斜沉积的速率和角度可控制超低折射率层的折射率和厚度,...
王胭脂刘加陈宇郭可升朱晔新王涛朱美萍张伟丽王建国赵娇玲孙建齐红基易葵邵建达
文献传递
共6页<123456>
聚类工具0