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何超
作品数:
3
被引量:12
H指数:3
供职机构:
中国电子科技集团公司第二研究所
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发文基金:
国家自然科学基金
山西省自然科学基金
国家高技术研究发展计划
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相关领域:
化学工程
一般工业技术
电气工程
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合作作者
王英民
中国电子科技集团公司第二研究所
徐伟
中国电子科技集团公司第二研究所
李斌
中国电子科技集团公司第二研究所
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刚石
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4H-SIC
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材料去除率
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粗糙度
机构
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中国电子科技...
作者
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徐伟
3篇
王英民
3篇
何超
1篇
李斌
传媒
1篇
电子工业专用...
1篇
工业设计
1篇
超硬材料工程
年份
1篇
2017
2篇
2016
共
3
条 记 录,以下是 1-3
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金刚石多线切割工艺对高纯4H-SiC晶片翘曲度的影响
被引量:4
2017年
描述了高纯SiC晶体材料的加工方法,分析了金刚石多线各种切割工艺对高纯SiC晶体的切割效果及效率的影响,并基于金刚石切割SiC晶体的理论依据,结合各种工艺试验数据及切割片数据,总结出相对稳定的工艺条件,并在这类工艺条件下,得出较低翘曲度的高纯SiC晶片,满足下游客户的要求,采用TROPEL FM-100平坦度测试仪分析各种切割工艺条件下的高纯100 mm 4H-SiC切割片表面形貌。
徐伟
王英民
何超
靳霄曦
谷晓晓
关键词:
翘曲度
金刚石多线切割材料去除率对SiC晶片翘曲度的影响
被引量:3
2016年
文章分析了SiC硬脆材料加工方法,建立了金刚石多线切割SiC晶体的材料去除率模型,并基于Matlab计算已知条件下的材料去除率随时间变化的规律,根据材料去除率模型进行切割试验,得出材料去除率对SiC晶片翘曲度的影响,采用TROPEL FM-100平坦度测试仪分析SiC切割片表面形貌。
徐伟
王英民
何超
关键词:
材料去除率
翘曲度
SiC晶片加工技术现状与趋势
被引量:6
2016年
SiC单晶材料作为第三代半导体衬底材料,在制作高频、大功率电子器件等领域有着广泛的应用前景,而SiC加工技术对制作衬底材料起到决定作用。介绍了SiC国内外加工技术的研究现状,分析和对比了切割、研磨、抛光加工工艺的机理及晶片平整度、粗糙度的变化趋势,并指出SiC单晶片加工过程中存在的问题和未来的发展趋势。
何超
王英民
李斌
徐伟
郝唯佑
关键词:
平整度
粗糙度
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