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黄均文

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：华东理工大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇紫外激光
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子学
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇抗蚀剂
  • 1篇刻蚀
  • 1篇激光
  • 1篇光致
  • 1篇光致抗蚀剂
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀

机构

  • 1篇华东理工大学

作者

  • 1篇金晓英
  • 1篇金桂林
  • 1篇施善定
  • 1篇蔡根寿
  • 1篇黄均文

传媒

  • 1篇激光杂志

年份

  • 1篇1994
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
耐反应离子刻蚀的紫外激光光致抗蚀剂的研究被引量：1
1994年
以芳香族双迭氮基化合物为交联剂，苯氧基二苯甲酮为光敏剂，聚甲基丙烯酸甲酯（ＰＭＭＡ）为基质树脂，合成了负型激光光致抗蚀剂。该体系能够在氮分子激光辐照下发生灵敏的光致交联反应，所生成的致密薄膜可以耐四氟化碳等离子体的反应离子刻蚀（ＲＩＥ）。用付里叶变换红外光谱法与紫外光谱法研究了激光光致交联反应以及反应离子刻蚀的动力学过程。讨论了影响反应速率以及刻蚀选择比的诸因素。
金桂林金晓英施善定蔡根寿黄均文
关键词：反应离子刻蚀光致抗蚀剂微电子学
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