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陈杨: 作品数：99 被引量：381H指数：11; 供职机构：常州大学更多>>; 发文基金：江苏省自然科学基金国家自然科学基金江苏省高技术研究计划项目更多>>; 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学化学工程更多>>

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可控壳厚纳米CeO_2中空球的制备、表征及其催化氧化性能被引量：3: 2010年; 以聚苯乙烯微球为模板制备PS/CeO_2复合颗粒,再通过煅烧去除PS内核形成CeO_2纳米中空球,并通过控制反应液中硝酸铈的浓度来最终控制中空球的壳厚。用TEM、FESEM、SAED、FTIR、DLS等手段,对所制备样品的物相结构、形貌和粒径分布进行了表征。结果表明,CeO_2中空球内径约为200 nm,外径约为230-260 nm,壳厚分别约为15、20、25和30 nm,中空球壳层由大量粒径为5-10 nm的纳米CeO_2颗粒紧密堆积所组成。经CeO_2中空球催化臭氧氧化处理2 h后,对苯酚的降解率可达95%以上。; 陈杨隆仁伟陈志刚陆锦霞; 关键词：复合材料壳厚模板法降解率

超声场对醇/水反应体系制备纳米CeO_2粉体影响研究被引量：6: 2007年; 在超声辐射条件下,以Ce(NO3)3.6H2O和六亚甲基四胺(HMT)为原料,使用醇/水反应体系制备了纳米CeO2粉体。采用透射电子显微镜(TEM)、平衡发射极晶体管(BET)对制备的纳米CeO2粉体进行了表征。研究了超声功率以及醇/水反应体系对纳米CeO2粉体粒径和团聚情况的影响,并探讨了其作用机理。结果表明,使用醇/水反应体系以及适当的超声辐射均有利于制备出粒径更小、分散性更好的纳米CeO2粉体,但过高的超声功率则易导致颗粒间的团聚;而且超声辐射能够显著加快反应速度。制备出的CeO2粉体的平均粒径小于10 nm,粒度分布窄,单分散性好。; 陈杨陈志刚李霞章陈爱莲; 关键词：纳米CEO2 超声辐射超声功率

一种新型提高镁合金耐蚀性能的工艺技术方法: 本发明提供了一种新型表面处理工艺技术方法并将其应用于镁合金表面的防护。该技术方法通过高能微弧合金化技术在镁合金表面制备获得致密的微晶化Ni-Cr合金层，涂层与基体具有良好结合强度并能有效阻挡腐蚀介质的渗透，为镁合金提供优...; 潘太军陈杨左小伟陈婧; 文献传递

包覆型CeO_2/SiO_2和CeO_2/聚苯乙烯复合磨料的制备及其化学机械抛光性能被引量：8: 2009年; 以SiO2和聚苯乙烯(polystyrene,PS)微球为内核,采用液相沉淀工艺制备了具有包覆结构的CeO2/SiO2和CeO2/PS复合颗粒。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪、动态光散射仪和zata电位测定等手段对所制备样品进行了表征。将所制备的CeO2/SiO2和CeO2/PS复合颗粒用于硅晶片热氧化层的化学机械抛光,用原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)观察抛光表面的微观形貌、测量表面粗糙度。结果表明:所制备的CeO2/SiO2和CeO2/PS复合颗粒呈球形,粒径在150～200nm,CeO2纳米颗粒在SiO2和PS微球内核表面包覆均匀。包覆的CeO2颗粒与SiO2内核之间形成了化学键结合。CeO2颗粒的包覆显著的改变了复合颗粒的表面电性。AFM测量结果表明:经CeO2/SiO2和CeO2/PS复合磨料抛光后的硅热氧化片表面在5μm×5μm范围内粗糙度值分别为0.292nm和0.180nm。; 陈志刚陈杨隆仁伟; 关键词：包覆化学机械抛光

三维有序氧化钛中空球薄膜的制备及其光电性能: 2015年; 为了提高染料敏化太阳能电池(DSSC)的光电转化效率,以聚苯乙烯微球(290-300 nm)自组装形成的胶体晶体为牺牲模板制备了三维有序氧化钛中空球(3DOHS-Ti O2)薄膜材料,考察了以P25-Ti O2/3DOHS-Ti O2双层膜为光阳极的电池的光电转化特性。扫描电镜结果表明:3DOHS-Ti O2样品中的Ti O2中空球呈紧密六方排列,其球心距为260-270 nm,壁厚为40-50 nm,相邻的Ti O2中空球彼此之间通过孔洞相互连接;透射电镜结果表明:Ti O2中空球体由尺寸约为10 nm的锐钛矿相氧化钛颗粒组成,其壳壁上有由颗粒间堆积形成的介孔。光电性能测试结果表明:P25-Ti O2/3DOHS-Ti O2/DSSC的光电转化效率可达6.98%,明显优于常规的P25-Ti O2/DSSC(4.32%),其原因是双层膜光阳极中的3DOHS-Ti O2薄膜对太阳光散射和捕捉能力的增强。; 陈爱莲唐昭芳陈杨陈志刚; 关键词：无机非金属材料氧化钛染料敏化太阳能电池

硅晶片化学机械抛光材料去除机制与模型被引量：6: 2006年; 通过分析软质层的形成、作用以及纳米磨料的自身变形对材料去除的影响,改进了CMP过程的接触力学模型;分析了纳米磨料自身变形量对磨料嵌入硅晶片基体材料的深度的影响,以及纳米磨料硬度对抛光表面粗糙度的影响。结果表明:软质层的存在增加了单个纳米磨料所去除材料的体积,且对基体材料有保护作用,减小了纳米磨料嵌入基体材料的深度;纳米磨料的自身变形抵消了纳米磨料嵌入基体材料的切削深度,从而也决定了抛光表面的粗糙度;纳米磨料的自身变形量与纳米磨料的硬度有关,硬度低的纳米磨料自身变形量大,因而切削深度小,抛光后表面的粗糙度值低。; 陈杨陈志刚李霞章陈爱莲; 关键词：化学机械抛光

壳层厚度对核-壳结构PS-SiO_2杂化颗粒压缩弹性模量的影响被引量：3: 2015年; 基于正负电荷间的静电作用制备了具有核-壳结构的聚苯乙烯-氧化硅（PS-SiO2）杂化颗粒,通过调节正硅酸乙酯的用量对样品的SiO2壳层厚度进行控制.利用原子力显微镜（AFM）在微观尺度上测定杂化颗粒的力-位移曲线,根据Hertz接触模型和Sneddon接触模型,考查了SiO2壳层厚度对样品压缩弹性模量的影响.扫描电子显微镜（SEM）和透射电镜（TEM）结果显示,杂化颗粒中PS内核尺寸为（197士9）nm,壳层由SiO2纳米颗粒组成,在本试验范围内杂化颗粒样品的壳厚为11～16 nm.在Hertz接触模型条件下,PS微球的弹性模量为（2.2士0.5） GPa,其数值略低于PS块体材料.当SiO2壳厚由11 nm增至16 nm时,杂化颗粒的弹性模量从（4.4士0.6） GPa增至（10.2士1.1） GPa,其数值明显低于纯SiO2,且更接近于PS内核.; 陈爱莲钱程苗乃明陈杨; 关键词：核-壳结构弹性模量原子力显微镜

纳米CeO_2颗粒的制备及其对硅晶片(100)和(111)的抛光性能被引量：3: 2009年; 以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料,在微波辐射条件下,使用乙醇/水反应体系,通过均相沉淀法制备了纳米CeO2颗粒,利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶转换红外光谱仪(FT-IR)和比表面积测定仪(BET-N2)等手段对样品的成分、物相结构、形貌、颗粒大小以及团聚情况进行了表征.将所制备的纳米CeO2颗粒作为磨料用于硅晶片(100)和(111)的化学机械抛光,用原子力显微镜(AFM)观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度,并对抛光表面划痕进行了分析.结果表明,微波辐射以及乙醇/水反应体系均有利于制备出粒径更小、分散性更好的纳米CeO2颗粒,而且微波辐射能够显著加快反应速度;经纳米CeO2磨料抛光的硅晶片(100)和(111)表面非常平整,在2μm×2μm范围内的粗糙度Ra值分别为0.275 nm和0.110 nm,获得了具有亚纳米量级粗糙度的抛光表面.; 陈杨陈志刚陈爱莲; 关键词：氧化铈微波辐射硅晶片抛光

包覆结构CeO_2/SiO_2复合磨料的合成及其应用被引量：5: 2010年; 以正硅酸乙酯水解所得的SiO2微球为内核,采用均匀沉淀法制备具有草莓状包覆结构的CeO2/SiO2复合粉体。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪(XPS)、动态光散射仪和Zeta电位测定仪等手段,对所制备样品的物相结构、组成、形貌和粒径大小进行表征。将所制备的包覆结构CeO2/SiO2复合粉体用于硅晶片热氧化层的化学机械抛光,用原子力显微镜(AFM)观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度,并测量材料去除率。结果表明:所制备的CeO2/SiO2复合颗粒呈规则球形,平均粒径为150～200nm,CeO2纳米颗粒在SiO2内核表面包覆均匀。CeO2颗粒的包覆显著地改变复合颗粒表面的电动力学行为,CeO2/SiO2复合颗粒的等电点为6.2,且明显地偏向纯CeO2;CeO2外壳与SiO2内核之间形成Si—O—Ce键,两者产生化学键结合;抛光后的硅热氧化层表面在2μm×2μm范围内粗糙度为0.281nm,材料去除率达到454.6nm/min。; 陈杨隆仁伟陈志刚; 关键词：包覆化学机械抛光

醇水均匀沉淀法制备纳米CeO_2粉体工艺及机理研究被引量：3: 2006年; 在醇-水体系中以六亚甲基四胺(HMT)为缓释沉淀剂制备了纳米CeO_2粉体,并用TEM和BET对其进行了表征,考察了制备过程中工艺参数对CeO_2粉体颗粒大小及团聚的影响,并对影响机理进行了探讨。结果表明：在较佳工艺条件下制备的纳米CeO_2平均尺寸约为8nm,与传统的水溶液均匀沉淀法相比较,该方法得到的粉体粒径更小,且分散性好。; 李霞章陈志刚陈建清陈杨; 关键词：纳米CEO2 透光率沉淀法

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