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文献类型

  • 1篇中文专利

主题

  • 1篇阴极
  • 1篇片架
  • 1篇轴承
  • 1篇滑动轴承
  • 1篇溅射
  • 1篇背板
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁轭

机构

  • 1篇北京四方继保...

作者

  • 1篇张至树
  • 1篇余新平
  • 1篇张宁
  • 1篇张森
  • 1篇卓胜

年份

  • 1篇2015
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
一种提高磁控溅射平面靶材利用率的方法及装置
本发明公开了一种用于提高磁控溅射平面靶材利用率的方法及装置。本申请采用靶材固定、阴极移动的设计。将绑定在背板上的平面靶材用压靶框固定在阴极背板上,阴极背板固定有靶材的一侧置于真空腔室内。排满磁铁的磁轭为磁控溅射提供稳定的...
张宁余新平张森卓胜张至树
文献传递
共1页<1>
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