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混凝土空心砌块回弹测试的影响因素研究: 回弹法检测砌体块材抗压强度在烧结砖中应用越来越广泛,但在非烧结砖砌体块材中并未得到应用.通过9个普通混凝土空心砌块砌体试件的回弹对比试验,研究了不同约束条件、竖向压力对砌块回弹值的影响.通过对试验数据进行对比研究分析,得...; 罗虎陈大川; 关键词：回弹法混凝土空心砌块影响因素

氧化锆陶瓷大抛光模磁流变抛光试验研究被引量：12: 2018年; 目的研发一种高效、高质量氧化锆陶瓷超光滑表面加工技术。方法采用大抛光模磁流变抛光方式加工氧化锆陶瓷,利用自主研发的磁流变平面抛光装置,配制含有金刚石磨粒的磁流变抛光液,通过设计单因素实验,研究抛光时间、工作间隙、工件转速和抛光槽转速等主要工艺参数对氧化锆陶瓷平面磁流变加工性能的影响,并对材料去除率和表面粗糙度进行分析。结果在工作间隙为1.4 mm、工件转速为100 r/min、抛光槽转速为25 r/min的工艺条件下,表面粗糙度在达到饱和之前随时间的增加而降低。抛光30 min达到饱和,表面粗糙度Ra达到0.7 nm。继续延长抛光时间,表面粗糙度不再改善。氧化锆陶瓷的材料去除率随着工件转速和抛光槽转速的增加而增大,随着工作间隙的增大而减小。当工件转速为300 r/min时,材料去除率可以达到1.03 mg/min;抛光槽转速为25 r/min时,材料去除率可以达到0.80 mg/min;工作间隙为1.0 mm时,材料去除率最高可达0.77 mg/min。结论采用大抛光模磁流变抛光方法可以提高氧化锆陶瓷的材料去除率,同时获得纳米级表面粗糙度,实现氧化锆陶瓷的高效超光滑表面加工。; 郭美键罗虎王长兵尹韶辉陈逢军郭源帆; 关键词：氧化锆陶瓷磁流变抛光材料去除率超光滑表面

混凝土空心砌块回弹测试的影响因素研究: 回弹法检测砌体块材抗压强度在烧结砖中应用越来越广泛,但在非烧结砖砌体块材中并未得到应用。通过9个普通混凝土空心砌块砌体试件的回弹对比试验,研究了不同约束条件、竖向压力对砌块回弹值的影响。通过对试验数据进行对比研究分析,得...; 罗虎陈大川; 关键词：回弹法混凝土空心砌块影响因素; 文献传递

回弹法推定砌体中普通混凝土空心砌块抗压强度研究: 回弹法是用一弹簧驱动的重锤，通过弹击材料表面，并测得回弹值（重锤被反弹回来的距离与弹簧初始长度之比）作为与强度相关的指标，来推定混凝土及砖强度的一种方法，是一种较理想的砌体工程的现场检测技术方法，拥有非破损性、测试简单快...; 罗虎; 关键词：回弹法回弹测强曲线最小二乘法抗压强度; 文献传递

基于ANSYS的底框砌体结构上部刚度调整对基础不均匀沉降影响分析: 建筑物的不均匀沉降是土木工程中常见的一项工程事故,较大的不均沉降会引起建筑物的倾斜和变形,从而引起上部结构的内力重分布,最终导致结构的开裂甚至破坏.本文基于有限元分析软件ANSYS建立了含有底部框架的砌体结构模型.分析了...; 罗虎陈大川刘日新; 关键词：不均匀沉降弹性模量; 文献传递

永磁磁轭励磁的高效磁流变平整加工工艺研究: 手机、平板电脑及数码相机等产品的普及,促进了光学玻璃在民用领域的广泛应用,市场对平面高精度的镜片需求越来越大。传统的抛光方法能对平面玻璃材料进行抛光,但其加工效率和精度难以满足市场的需求。因此迫切需要发展新型高效率、高精...; 罗虎; 关键词：表面粗糙度材料去除率; 文献传递

一种抗氧化的水基磁流变抛光液及其制备方法: 本发明公开了一种抗氧化的水基磁流变抛光液新配方，由下述体积组分组成：水基复合载液40％‑60％，微粉添加组分35％‑65％，抗氧化添加组分2％‑10％。其中，水基复合载液为去离子水、电解液、表面活性剂和润滑剂组成。微粉添...; 尹韶辉罗虎郭美键陈逢军; 文献传递

回弹法推定普通混凝土空心砌块抗压强度研究被引量：10: 2013年; 从3片砌体墙片中随机抽取60个砌块,研究了砌块回弹测试时的回弹仪选取以及回弹仪回弹砌块带肋与不带肋位置时的回弹值大小的差异.通过9个混凝土空心砌块砌体试件中的回弹对比试验,研究了砌块在不同约束条件、竖向压力和混凝土灌孔下的回弹值的关系.通过对砌块回弹值-抗压强度的试验数据进行对比研究和回归分析,提出了回弹法检测砌体中普通混凝土空心砌块抗压强度的一般公式.验证性试验结果显示,该公式检测精度较高,可为相关标准、规范的修订提供依据.; 陈大川罗虎刘翔; 关键词：抗压强度回弹法混凝土空心砌块影响因素

基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究被引量：7: 2016年; 磁力抛光多数以单面抛光为主,较少有双面同时有效抛光方式.本文提出了基于环形磁场励磁的磁力抛光新工艺,该方法可以同时有效抛光两个表面.通过设计能励磁环形磁场的电磁铁,并进行三维有限元仿真分析,搭建了环形磁场双面抛光装置.利用该平台进行不锈钢两面抛光工艺试验研究,探讨了电流强度、磁极与工件间间隙、主轴转速和抛光时间工艺等参数对表面粗糙度R_a的影响.得出表面粗糙度R_a随着抛光时间、工作间隙、工件转速的增大而减小.设计正交实验方案得出合理的两面磁力抛光工艺参数,并最终取得了具有良好表面粗糙度R_a的两面工件样品.试验证明,该方法可以同时对工件的两个表面进行抛光,两个表面的表面粗糙度R_a由最初0.2μm下降到R_a(S)=0.094μm和R_a(N)=0.068μm.; 阮日新罗虎王永强陈逢军胡天尹韶辉; 关键词：磁力研磨

高效磁流变平整加工中的励磁装置优化及试验研究被引量：4: 2015年; 提出一种具有直线气隙的永磁轭励磁方法以形成大面积磁流变硬化区,从而实现超光滑表面的高效磁流变平整加工。为进一步提高加工效率,采用有限元分析法结合正交法对永磁轭励磁装置进行优化;为评估优化效果,利用优化前后的永磁轭励磁装置进行加工试验,对优化前后永磁轭的外部磁场强度、永磁轭的性能、磁流变硬化区、抛光痕面积及加工效果进行测试并分析比较。试验结果表明,优化后的永磁轭磁感应强度增强,梯度磁场宽度增加,形成的磁流变硬化区变宽,抛光面积和体积去除率增大,有效提高磁流变平整加工效率。; 王永强尹韶辉魏长青陈逢军罗虎龚胜

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