傅国海
- 作品数：15 被引量：68H指数：7
- 供职机构：中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：农业科学更多>>
- 日光温室隔热型基质栽培番茄根区温热效应研究
- 通过构建一种日光温室隔热型基质栽培方法-起垄内嵌式基质栽培(soil ridged substrate-embedded cultivation,SRSC),并通过优化栽培垄地膜覆盖类型,解决日光温室栽培过程中的资源环境...
- 傅国海刘文科
- 关键词：地膜番茄
- 日光温室不同类型起垄内嵌式基质栽培垄冬季温热变化及甜椒苗期生长比较被引量：8
- 2017年
- 为对比不同类型起垄内嵌式基质栽培垄的温热性能,设置处理1为梯形土垄(T1),底宽40cm,高15cm;处理2为栽培槽(基质)宽度减小一半SSC垄(T2),底宽为35cm;处理3为槽体全嵌入(15cm)地平表面的SSC垄(T3),高度为0cm;处理4为半嵌入(5cm)地平表面的SSC垄(T4),高度为10cm;处理5为外侧无土包被的单一裸槽垄(T5),宽度为10cm;处理6为标准SSC垄(T6),规格与土垄一致。分别探究了宽度差异(T1、T2、T5和T6)和嵌入深度差异(T3、T4、T5和T6)栽培垄的根区温热变化特征及其甜椒苗生长情况。结果表明,宽度差异的栽培垄中,T6根区抵御环境低温的能力最强,最低温度分别比T1、T2和T5高0.55、1.27和1.33℃。T6的侧面和垂直方向上的热量传递较为缓慢和持久,能够蓄积更多的热量。嵌入深度和土壤包被差异的栽培垄中,T5抗低温能力最弱,T6抗低温能力最强,最低温度分别比T3、T4和T5高0.44、0.84和1.55℃。T3根区温度的稳定性较强。相对的,T3侧面和垂直方向上的根区热量传递缓慢,T5热量传导最为剧烈,T6在2个方向上的吸热时间较长。此外,宽度差异栽培垄中,T2、T5和T6甜椒幼苗生长优于T1,且T6最优;嵌入深度和土壤包被差异栽培垄中,T5甜椒幼苗的生长比其他处理差,T3和T6甜椒的各项指标差异不显著,但T6更有优势。总之,T6抗低温的能力比其他处理强,能够有效蓄积热量并且减缓热量散失,为冬季日光温室甜椒幼苗生长创造良好的根区温度条件,促进甜椒幼苗的生长。
- 傅国海杨其长刘文科
- 关键词：日光温室根区温度热通量
- 土垄内嵌基质栽培方式对日光温室春甜椒的降温增产效应被引量：16
- 2016年
- 本文提出土垄内嵌基质的栽培方式以缓解日光温室春甜椒生长季遭受的高温影响。通过设置土垄栽培(S处理)、土垄嵌PE槽基质栽培(P处理)、土垄嵌铁丝网槽基质栽培(W处理)3种处理,以单纯PE槽基质栽培(CK)为对照,在春甜椒果实成熟采摘期(5-6月)每日气温较高时段(12:00-16:00)观测各处理根区环境温度,在甜椒不同生育时期观测各处理植株的生长指标及产量并进行比较。结果表明:S、P和W处理的根区温度分别比CK低1.50、2.17和1.47℃,说明P和W处理能够有效缓冲高温时甜椒根区环境温度的升高,且P处理的温度缓冲效果略优于W处理。S、P和W处理甜椒的株高、茎粗、叶绿素含量和地上干鲜重均显著高于CK,能显著促进甜椒生长发育,其中W处理对甜椒生长的促进作用最明显。基质栽培根系鲜重较大,但CK根区高温减少了甜椒地上部和根系干物质积累。此外,第一次采摘时土垄栽培的结实数显著低于其它3个处理,说明基质栽培相对土壤栽培能促进甜椒开花坐果,缩短生育期。W处理结实数、单果重、单株产量、果实大小及单产均显著高于其它处理,其产量为3.78kg·m^(-2),分别比S、P和CK处理提高80.9%、31.3%和51.8%。总之,土垄嵌铁丝网槽基质栽培能够在有效增强根区温度缓冲能力的前提下,明显提高甜椒产量,在日光温室高温环境生产中具有重要的应用价值。
- 傅国海刘文科
- 关键词：日光温室甜椒根区温度
- 日光温室4种起垄覆膜方式对甜椒幼苗生长的影响被引量：15
- 2015年
- 我国北方地区日光温室蔬菜生产过程中,土壤起垄覆膜栽培应用广泛。提出了一种新型起垄覆膜栽培方式——起垄内嵌式基质栽培(Ridge substrate-embedded cultivation,RSC),在此基础上衍生出两种形式的起垄覆膜方式,即土壤嵌槽覆膜(RSC-P)和嵌膜覆膜(RSC-W),并研究了包括土垄覆膜(SR)和基质栽培槽覆膜(PEG)在内的4种起垄覆膜方式对甜椒幼苗生长的影响。试验结果表明:相对于SR,RSC-P、RSC-W和PEG 3种起垄覆膜方式能够显著提高甜椒幼苗的株高、叶片数和叶绿素含量,其中株高分别比SR栽培垄的甜椒幼苗高26%、27.5%和32%,叶片比SR甜椒幼苗多4片,叶绿素含量更是显著高于SR栽培的甜椒幼苗。试验表明,设置的3种起垄覆膜方式都能显著促进甜椒幼苗生长。
- 傅国海刘文科
- 关键词：株高叶绿素含量
- 日光温室四种土垄内嵌式基质栽培垄甜椒根区与垄侧昼夜温度变化特征被引量：5
- 2018年
- 针对我国北方地区日光温室冬春季低温胁迫、土壤连作障碍、单产低、水肥资源利用率低等问题,发明了一种新型的栽培方法-土垄内嵌式基质栽培方法(SSC)。在日光温室条件下研究了土垄(SR)、标准垄(NR)、矮标准垄(NRs)、窄标准垄(NRn)和种植密度加倍标准垄(NRd)5种不同垄型的根区与侧面土壤温度的昼夜变化特征。结果表明:2016年11月6~10日和2017年1月2~7日两个生长阶段连续5个昼夜中室内平均温度、白天平均温度和夜间平均温度依次为16.53℃、20.44℃和14.12℃,13.92℃、22.78℃和10.16℃。11月份连续5个昼夜中昼夜平均温度的差值和最高温度平均值与最低温度平均值的差值均以SR处理最高,分别为2.04℃和6.06℃;均以NRs处理最低,分别为0.80℃和4.95℃。1月份连续5个昼夜平均温度的差值和白天最高温度与夜间最低温度平均值的差值均以SR处理最高,分别为1.18℃和6.24℃;最高温与最低温平均值的差值以NRs处理最低,为4.85℃;昼夜平均温度差值以NRn最低,为0.07℃。各处理根区温度和东侧西侧土壤温度都为极显著线性相关。试验结果表明,NR具有较好的根区温度缓冲能力,且能够提升夜间根区温度,在冬季与早春季日光温室蔬菜生产中具有更好的应用前景。
- 李宗耕傅国海刘文科
- 关键词：日光温室甜椒根区温度
- 根区温度对设施作物生理生态影响的研究进展被引量：18
- 2016年
- 设施作物对根区温度变化的反应较空气温度更加敏感,根区温度的变化能够引起作物生理生态的剧烈变化。本文系统总结了根区温度对设施园艺作物根系和冠层的生理生态影响及作用机制,阐述了设施园艺作物根区温度调控方法与技术研究进展,以及研究中存在的问题,并对未来的研究方向进行了展望。
- 傅国海杨其长刘文科闫文凯
- 关键词：根区温度根系冠层生理生态
- LED补光和根区加温对日光温室SRSC甜椒生长及产量的影响
- 田间条件下采用起垄内嵌式基质栽培(soil ridge substrate-embedded cultivation,SRSC)方法,研究了日光温室LED冠层补光和电热线根区加温对甜椒生长和产量的影响。该试验设置不加温不...
- 傅国海杨其长刘文科闫文凯
- 关键词：日光温室热通量
- 覆膜种类对夏季日光温室起垄内嵌式基质栽培根区温热的影响被引量：6
- 2018年
- 夏季在日光温室中采用新型栽培方式起垄内嵌式基质栽培法种植番茄,探究黑色、灰色反光和银色反光地膜3种不同覆膜种类对新型栽培方式根区温热的影响,并对其降温性能做出评价。结果表明,夏季日光温室内白天气温高于根区温度,夜间气温低于根区温度,室内温度的日变化大;银色地膜隔热性能较好,根区温度日变化平缓,降温效果显著;黑色地膜隔热性能差,根区温度日变化剧烈,降温效果差。热通量在不同地膜不同根区位置的吸放热也有所不同,在根区表面,以黑色地膜吸放热最为剧烈;在根区中部和底部,均以灰色地膜吸热最为剧烈。
- 李宗耕傅国海刘文科
- 关键词：根区温度日光温室基质栽培内嵌式夏季起垄
- 覆膜类型对日光温室SRSC栽培番茄幼苗根区温热效应的影响被引量：7
- 2017年
- 试验以土垄内嵌基质栽培方法(soil ridged substrate-embedded cultivation,SRSC)为基础,通过优化地膜覆盖类型,以期进一步缓解日光温室基质栽培过程中的高温胁迫,并促进番茄幼苗抗高温生长。以传统的土壤栽培垄+透明地膜为对照(CK),设置SRSC+透明地膜(TM),SRSC+黑色地膜(HM),SRSC+普通反光地膜(PF)和SRSC+强反光地膜(QF)共4个处理,在夏季日光温室中研究不同覆膜类型的SRSC栽培垄的根区温热效应及番茄幼苗生长情况。结果表明,在定植前覆盖不同类型地膜的SRSC垄其膜下和根区平均最高温度和昼间平均温度均低于CK,其中QF处理的膜下和根区温度最低,膜下和根区平均最高温度分别比CK低12.78和9.73℃,昼间平均温度分别比CK低7.88和6.16℃,隔热降温效果最优。定植后,环境温度升高,但各处理膜下和根区温度的变化规律与定植前基本一致,此阶段,QF处理依然表现出最优的隔热降温效果,其膜下和根区平均最高温度分别比CK低8.96和8.97℃,而膜下和根区的昼间平均温度分别比CK低6.02和5.47℃,降温效果明显,但比前期环境温度较低时有所下降。就根区降温效果看,降温能力表现为QF>PF>HM>TM>CK。夜间,各处理的膜下和根区温度均降至较为一致的适宜水平。根区温度与土壤吸放热多少无直接关系,HM、PF和QF三种不同覆膜类型处理中,QF处理根区的热量传递最为缓慢,根区温度最低。PF和QF处理的番茄幼苗株高和茎粗显著高于CK,且QF对增加株高和茎粗效果最显著。随着HM、PF和QF处理隔热降温效果的增强,番茄幼苗生物量逐渐增加,其中以QF的地上地下干鲜重最优,番茄幼苗生长最好。综上所述,通过SRSC方法,结合不同类型地膜覆盖,以覆盖强反光地膜的SRSC垄在夏季日光温室生产中能够改善栽培垄根区温热效应,同时有利于番茄苗期的生长。
- 傅国海刘文科
- 关键词：地膜番茄
- LED补光和根区加温对日光温室起垄内嵌式基质栽培甜椒生长及产量的影响被引量：11
- 2017年
- 田间条件下采用起垄内嵌式基质栽培(soil ridged substrate-embedded cultivation,SRSC)方法,研究了日光温室LED冠层补光和电热线根区加温对甜椒生长和产量的影响。该试验设不加温不补光对照(CK)、根区加温15℃处理(T15)、根区加温18℃处理(T18)、单一补光处理(L)、根区加温15℃+补光处理(T15+L)、根区加温18℃+补光处理(T18+L),共6个处理。结果表明,与对照相比,根区加温均能提高SRSC甜椒根区的温度,但根区温度仍呈现出随环境温度变化而变化的趋势,T18的根区全天保持较高温度。根区热通量的变化与根区温度变化相对应,T15和T18处理的根区热通量昼夜变化较CK剧烈,其根区侧面白天向内传热滞后,晚间侧面向外传热提前,传递量增加;根区垂直方向白天向内传热滞后,传递量减少,晚间垂直向外传热提前,但传递量增加。T15和T18均显著提高了甜椒的株高、冠层厚度和冠层直径,且T18比T15效果更明显。T15对甜椒的地上及地下干鲜重没有显著的提升作用,而T18的提升效果显著。根区加温补光处理的甜椒生物量普遍高于单一根区加温或补光处理,其中T18+L处理提升效果显著优于T15+L处理。T15、T18和L相对CK均提高了甜椒单产,单产分别提高30.74%、53.0%和14.81%。而根区加温和LED补光协同作用比单一的根区加温或冠层补光都能表现更好的增产效果,T15+L和T18+L分别比T15和T18的产量分别提升32.86%和15.50%,分别比L产量提升51.29%和53.87%。总之,根区加温与LED补光是日光温室甜椒增产有效的调控措施,两者在增加单株产量上存在显著的协同效应,二者共同作用比单一作用效果更加明显,且根区加温对甜椒生长和产量的促进效果比冠层补光更加显著,在实际生产中具有重要的指导意义。
- 傅国海杨其长刘文科
- 关键词：日光温室甜椒
