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陈正伟

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 1篇真空
  • 1篇真空密封
  • 1篇支撑体
  • 1篇通信连接
  • 1篇卡箍
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀设备
  • 1篇控制设备
  • 1篇控制信号
  • 1篇控制装置
  • 1篇废气

机构

  • 2篇北京京东方光...

作者

  • 2篇肖红玺
  • 2篇陈正伟
  • 1篇李伟
  • 1篇张福刚

年份

  • 2篇2011
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
控制设备
本实用新型公开了一种控制设备，包括：检测装置和控制装置；所述检测装置与卡箍的固定装置的一端邻近，用于根据所述固定装置的一端与所述检测装置的相对距离检测出一状态信号，并将所述状态信号输出给所述控制装置；所述控制装置与所述检...
张福刚陈正伟刘保力肖红玺李伟
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干法刻蚀设备中真空密封门的安装结构
本实用新型公开了一种干法刻蚀设备中真空密封门的安装结构，涉及刻蚀设备技术领域，解决了现有技术中真空密封门安装程序复杂的问题，本实用新型提供一种干法刻蚀设备中真空密封门的安装结构，包括升降机构，所述升降机构上设有支撑所述真...
刘华锋陈正伟肖红玺苏顺康
文献传递
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