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李伟

作品数：47 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
相关领域：文化科学金属学及工艺自动化与计算机技术天文地球更多>>

合作作者

文献类型

  • 47篇中文专利

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇文化科学
  • 1篇天文地球
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 12篇气体
  • 12篇硅片
  • 11篇二相流
  • 11篇出口
  • 10篇卡盘
  • 9篇液体流
  • 8篇密封
  • 7篇清洗工艺
  • 7篇机械手
  • 7篇硅片清洗
  • 6篇颗粒尺寸
  • 6篇夹持
  • 5篇导轨
  • 5篇旋转轴
  • 5篇清洗方法
  • 5篇转轴
  • 5篇污染
  • 4篇腔体
  • 4篇晶片
  • 4篇半导体

机构

  • 47篇北京七星华创...

作者

  • 47篇李伟
  • 20篇王浩
  • 18篇张豹
  • 17篇吴仪
  • 16篇滕宇
  • 12篇姬丹丹
  • 12篇王波雷
  • 6篇张享倩
  • 5篇徐俊成
  • 5篇高浩
  • 3篇赵宏宇
  • 2篇刘效岩
  • 2篇张晓红
  • 2篇孙文婷

年份

  • 3篇2019
  • 2篇2018
  • 2篇2017
  • 11篇2016
  • 8篇2015
  • 3篇2014
  • 13篇2013
  • 5篇2012
共 47 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种喷淋装置
本发明公开了一种喷淋装置，包括：喷淋头、旋转执行机构、升降执行机构和用于容纳喷淋药液的盛接槽，所述喷淋头通过旋转执行机构与升降执行机构连接。本发明的喷淋装置，可使整个清洗工艺过程连贯，减少制造成本、以及设备故障发生率并且...
王波雷吴仪李伟王浩张豹
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一种可自清洁的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法
本发明公开了一种可自清洁的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法，在喷嘴主体内设置带有预设角度的液体导向出口的多路液体分流管路，以及带有垂直气体导向出口的出气网板，使喷射出的高速液体流与高速气体流产生充分地相互作用，形成颗粒尺...
滕宇李伟
文献传递
一种清洗液体收集装置
本发明公开了一种清洗液体收集装置，包括进气部分、清洗液体收集部分和气-液分离部分，通过进气部分向清洗液体收集部分通入气体，在气体出口处形成环形气帘，与晶圆表面甩离的清洗液体发生非弹性碰撞，使清洗液体改变运动方向，进入气液...
滕宇吴仪李伟
文献传递
一种平衡硅片夹持机构
本发明公开了一种平衡硅片夹持机构，包括：旋转轴及可在所述旋转轴带动下旋转的卡盘，所述卡盘包括三个夹持臂，其中两个所述夹持臂的端部为固定夹持元件，另一个所述夹持臂的端部为可调夹持件；所述可调夹持件可相对与所述卡盘的连接点摆...
凯里·雷李伟张豹吴仪王锐廷
盘状物夹持装置
本发明公开了一种盘状物夹持装置，涉及半导体晶片工艺技术领域，该装置包括：卡盘主体、凸轮、转轴、至少三个夹持部件，所述转轴安装在所述卡盘主体上，且与所述卡盘主体共轴线，用于带动所述卡盘主体旋转，所述凸轮可旋转地安装在所述卡...
张豹李伟张晓红王锐廷吴仪
一种可自清洁的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法
本发明公开了一种可自清洁的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法，在喷嘴主体内设置带有预设角度的液体导向出口的多路液体分流管路，以及带有垂直气体导向出口的出气网板，使喷射出的高速液体流与高速气体流产生充分地相互作用，形成颗粒尺...
滕宇李伟
一种清洗液体收集装置
本发明公开了一种清洗液体收集装置，包括进气部分、清洗液体收集部分和气‑液分离部分，通过进气部分向清洗液体收集部分通入气体，在气体出口处形成环形气帘，与晶圆表面甩离的清洗液体发生非弹性碰撞，使清洗液体改变运动方向，进入气液...
滕宇吴仪李伟
文献传递
一种平衡硅片夹持机构
本发明公开了一种平衡硅片夹持机构，包括：旋转轴及可在所述旋转轴带动下旋转的卡盘，所述卡盘包括三个夹持臂，其中两个所述夹持臂的端部为固定夹持元件，另一个所述夹持臂的端部为可调夹持件；所述可调夹持件可相对与所述卡盘的连接点摆...
凯里·雷李伟张豹吴仪王锐廷
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一种具有气体保护的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法
本发明公开了一种具有气体保护的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法，在喷嘴主体内设置带有预设角度的液体导向出口的多路液体分流管路，以及带有垂直气体导向出口的出气网板，使喷射出的高速液体流与高速气体流产生充分地相互作用，形成颗...
滕宇李伟
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一种可自清洁的二相流雾化喷射清洗装置
本实用新型公开了一种可自清洁的二相流雾化喷射清洗装置，在喷嘴主体内设置带有预设角度的液体导向出口的多路液体分流管路，以及带有垂直气体导向出口的出气网板，使喷射出的高速液体流与高速气体流产生充分地相互作用，形成颗粒尺寸均一...
滕宇李伟
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