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一种光学薄膜生产的新工艺—等离子体辅助蒸镀: 1999年; 离子辅助蒸镀可以改善薄膜的性能已为大家所熟知，并适用于多种镀膜材料的多层薄膜，但是由于这种工艺的总离子流较低以及商品离子流的束斑面积较小，故其幅照的基片范围是极其有限的，采用先进的等离子体源（ＡＰＳ），就克服了上述缺陷，其总的离子流可达到５Ａ，均匀辐照基片的范围达到的１ｍ＾２，这种等离子体源通常安装在箱式镀膜机上，ＡＰＳ除了用于等离子体辅助蒸镀外，还可用于化学气相淀积工艺，例如等离子体聚合。本文对用ＡＰＳ进行等离子体辅助蒸镀工艺的原理作了叙述，同时介绍了用这种工艺镀制介质多层膜，如截止滤光片和减反射膜，其波长不发生漂移，对有机基底材料为尤其明显，加固层、减反射膜和憎水层可以三者一起加到了有机基底表面，改善了这种基底性能，而且已进行了规模生产。; 朱耀南涂建军; 关键词：光学薄膜生产工艺

利用三种薄膜材料镀制超宽带减反膜: 在镀制一般减反射光学薄膜时,我们利用石英膜厚控制仪、采用TiO2-MgF2这二种薄膜材料来制作。我公司产品中有几种较大且较厚的光学零件需二面镀制超宽带减反膜,其技术要求:λ=450～1100nmR≤0.8%,Rmax≤1...; 涂建军; 关键词：光学性能超宽带; 文献传递

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涂建军