杨涛
- 作品数：7 被引量：48H指数：3
- 供职机构：上海工程技术大学材料工程学院更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术电子电信更多>>
- 汽车零部件表面强化技术研究现状及展望被引量：22
- 2015年
- 在传统渗碳、渗氮及表面淬火工艺的汽车零部件表面强化技术基础上,简单综述了传统工艺在汽车零部件表面强化上应用的工艺优缺点及研究现状,重点阐述了新型表面形变强化、高能束流表面强化、表面冶金强化、表面复合强化及表面纳米强化的汽车零部件表面强化技术,详细介绍了目前广泛使用的新型表面形变强化中的喷丸强化工艺、高能束流表面强化中的激光表面淬火与电子束表面淬火工艺及表面冶金强化中等离子喷涂工艺的技术特点和应用现状,分析了国内外汽车零部件表面复合强化技术和表面纳米强化技术的工艺特点和研究现状,尤其是将表面复合强化技术中的传统工艺与传统工艺、传统工艺与新型工艺、新型工艺与新型工艺的多种复合工艺的相互结合及QPQ盐浴复合处理技术在汽车零部件表面强化上的应用,最后展望了未来汽车零部件表面强化技术的发展方向。
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- 关键词：汽车零部件
- 氮气流量对磁控溅射法沉积NGZO薄膜性能的影响
- 2017年
- 目的通过磁控溅射镀膜工艺,在玻璃上制备高质量的氮镓共掺杂氧化锌(NGZO)薄膜。方法采用射频磁控溅射法,同时通入氩气和氮气,在流量比分别为25/10、25/20、25/25、25/30((m L/min)/(m L/min))条件下制备NGZO薄膜。通过XRD和SEM对薄膜的物相结构和表面形貌进行分析,通过紫外/可见分光光度计和霍尔效应测试仪对薄膜透过率和载流子浓度、迁移率及薄膜电阻率进行研究。结果与未掺入N的Ga掺杂氧化锌(GZO)薄膜相比,在可见光区,尤其是600~800 nm范围内,NGZO薄膜平均透过率在80%以上,符合透明导电薄膜透过率的要求。GZO薄膜载流子浓度较高,电阻率较低,而掺入N后薄膜的载流子浓度和迁移率有所下降,电阻率有所增加。结论在N-Ga共掺杂薄膜中,N的掺杂主要占据O空位,并吸引空位周围的电子,这减小了薄膜晶格畸变,并产生电子空穴,最终使得薄膜中电子载流子浓度降低,空穴载流子浓度增加,电阻率有所增加。随着氮气流量的变化,发现在25 m L/min时,薄膜具有最佳的综合性能。这种薄膜可用于紫外光探测器等需较大电阻率的应用中,并有望实现n-p型转化。
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- 关键词：氮气射频磁控溅射光电性能
- 加磁场对GZO薄膜结构及光电性能的影响
- 2016年
- 采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备了Ga掺杂ZnO(GZO)薄膜,在传统磁控溅射系统中引入外加磁场,探究了磁场强度变化对GZO薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果表明:所制得的GZO薄膜结构均为六角纤锌结构且在[002]方向沿C轴择优取向;外加磁场强度对薄膜的光电性能具有较大影响,在可见光范围内,薄膜的平均透光率超过93%,并出现了Moss-Burstein效应;薄膜的电学性能得到提升,其电阻率从4.96×10^(-3)Ω·cm降至3.17×10^(-4)Ω·cm,霍尔迁移率从7.36 cm^2·V^(-1)·S^(-1)增至9.53 cm^2·V^(-1)·S^(-1)。
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- 关键词：外加磁场磁控溅射晶体结构光电性能
- 掺杂薄膜制备及光电学性能的研究进展
- 2016年
- 掺杂对于薄膜光电学性能的改善具有重要意义,通过不同的掺杂,可实现不同的光电学性能需求。综述了掺杂薄膜的制备方法和光电学性能方面的研究进展,并结合目前的研究现状,对其今后可能的发展方向进行了展望。
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- 碳纤维增强金属基复合材料的研究进展被引量：11
- 2016年
- 对近些年来碳纤维增强金属基复合材料的研究现状进行了综述。介绍了复合材料的制备方法,同时分析了各种方法的优点以及不足,并介绍了碳纤维的分布取向、界面状况以及残余应力对碳纤维增强金属基复合材料性能的影响。
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- 关键词：碳纤维金属基复合材料残余应力
- 金属表面溶胶-凝胶防腐蚀涂层的研究进展被引量：14
- 2015年
- 在各种防腐蚀的方法中,溶胶-凝胶法是一种操作简单、环境友好、成本低廉的表面涂层制备技术,被广泛应用于许多金属材料表面的腐蚀防护上。简单地介绍了溶胶-凝胶法的基本原理以及易改性、易控温、无污染的优点,重点阐述了影响涂层耐腐蚀性能的相关工艺参数,包括水解温度、p H值、陈化时间、反应物浓度、热处理温度等。详细综述了溶胶-凝胶法制备防腐蚀涂层工艺的特点与研究现状,经过单一无机氧化涂层到多元复合涂层的发展,涂层的性能得到提升,应用范围更加广泛。介绍了溶胶-凝胶涂层的3个防腐蚀机理,包括屏蔽作用、缓蚀钝化作用、牺牲阳极保护作用,阐述了涂层的防腐蚀机制,为研究新的防腐蚀工艺提供理论基础。最后,总结了目前防腐蚀涂层研究过程中所遇到的困难,并展望了可能的解决方法,为未来的研究提供了发展方向。
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- 关键词：溶胶-凝胶法防腐蚀金属涂层
- 退火处理对磁控溅射制备Ga掺杂ZnO薄膜性能的影响被引量：1
- 2015年
- 采用磁控溅射法在普通玻璃上制备了Ga掺杂ZnO(GZO)薄膜,研究了退火处理对GZO薄膜组织结构、表面形貌及光电性能的影响,并利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、紫外分光光度计、四探针测试仪等对GZO薄膜的表面形貌、晶体结构、透光率及电阻率等进行测量与表征。结果表明:400~800℃退火对GZO薄膜的生长方式影响较小,所制薄膜均在(002)晶向沿c轴择优取向,退火温度对薄膜表面形貌影响较大,退火温度为600℃时,薄膜表面致密、平整,结晶质量最好,薄膜的透光率超过95%,电阻率最低为4.9×10^(-4)?·cm。
- 张有为周细应周涛聂志云答建成杨涛
- 关键词：退火处理磁控溅射表面形貌光电性能
