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孙长庆

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：天津大学更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 1篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇等离子体
  • 1篇对向靶溅射
  • 1篇物性
  • 1篇连续介质
  • 1篇膜制备
  • 1篇高密度等离子...
  • 1篇靶材
  • 1篇板架
  • 1篇TIN薄膜

机构

  • 2篇天津大学

作者

  • 2篇刘裕光
  • 2篇姜恩永
  • 2篇程启
  • 2篇孙长庆
  • 1篇王忠杰
  • 1篇张西祥

传媒

  • 1篇金属学报

年份

  • 1篇1995
  • 1篇1992
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
温度可控型双对靶新型薄膜溅射仪
本实用新型涉及溅射技术领域。在长方体形真空溅射室内装两对相同尺寸的靶材，两对靶间加一隔离膜，其效能优于两台单对靶溅射仪。在施加在靶上的电磁场作用下，对靶各自形成高密度等离子体区。双重转动基板架既能使成膜均匀性好，又能实现...
姜恩永刘裕光孙长庆张西祥程启王忠杰
文献传递
对向靶溅射TiN薄膜的结构和物性被引量：1
1995年
利用对向靶溅射（ＦＴＳ）沉积出（１１１）择优取向的单相ＴｉＮ膜，膜硬度（ＨＶ）最高可达３８００，择优取向随基板偏压增高，可由（１１１）转向（２００），晶格常数随氮气分压增高而增大，这是氮原子进入四面体间隙引起的。
刘裕光姜恩永程启孙长庆
关键词：溅射氮化钛
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共1页<1>
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