您的位置： 专家智库 > >

邓淞文

作品数：33 被引量：2H指数：1
供职机构：中国科学院大连化学物理研究所更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术医药卫生理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 31篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 5篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇医药卫生
  • 1篇理学

主题

  • 7篇激光
  • 6篇碟片
  • 6篇镀膜
  • 6篇光学
  • 5篇棱镜
  • 4篇热沉
  • 4篇谐振腔
  • 4篇泵浦光
  • 3篇照射
  • 3篇直接照射
  • 3篇透镜
  • 3篇膜料
  • 3篇晶体
  • 3篇夹具
  • 3篇光束
  • 3篇光束质量
  • 3篇反射镜
  • 3篇非稳腔
  • 3篇高反膜
  • 3篇泵浦腔

机构

  • 33篇中国科学院
  • 2篇中国科学院大...
  • 1篇中国烟草总公...

作者

  • 33篇李刚
  • 33篇邓淞文
  • 21篇金玉奇
  • 17篇公发全
  • 15篇刘锐
  • 14篇贾勇
  • 9篇王锋
  • 7篇吕起鹏
  • 6篇孙龙
  • 2篇于海军
  • 2篇李国富
  • 2篇汪健
  • 2篇王元虎
  • 2篇多丽萍
  • 2篇王峰
  • 2篇康元福
  • 2篇曹靖
  • 1篇李庆伟
  • 1篇王晓丹

传媒

  • 2篇中国激光

年份

  • 1篇2024
  • 3篇2023
  • 2篇2022
  • 6篇2021
  • 3篇2019
  • 4篇2018
  • 6篇2017
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 2篇2013
共 33 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
一种大曲率光学元件曲率半径控制方法
本发明公开了一种基于薄膜应力精确控制大曲率光学元件曲率半径的加工方法。这种控制方法是传统光学加工技术与镀膜技术相结合的方法，可以实现光学元件曲率半径大小的精确控制，特别利用了薄膜应力特性，将这种薄膜镀制到光学元件表面上，...
李刚吕起鹏邓淞文刘锐王峰金玉奇
文献传递
大样品X射线衍射物相分析支架
本发明涉及一种大样品X射线衍射物相分析支架。商用的X射线衍射仪所配备的物相分析用标准平面样品台使用簧片对样品进行定位，由于簧片弹力和尺寸的限制，其能测试的样品大小一般在φ40以下，厚度在4mm以下，质量不超过100g。本...
邓淞文李刚潘艳伟
文献传递
一种四棱镜镀膜时的装夹方法
本发明涉及一种光学四棱镜镀膜时的装夹方法。该方法包括主盘、棱镜、角度互补块三个部分。主盘上开设有一个形状和尺寸与棱镜下表面相同的通孔，于通孔内壁面上设有用于承载四棱镜和角度互补块的凸台；角度互补块的角度及尺寸设计与棱镜的...
龚选香李刚邓淞文
文献传递
一种磁控溅射低温制备DLC薄膜的方法
本发明涉及一种磁控溅射制备DLC薄膜的方法，采用在沉积室内引入一等离子体区域的方法，提高镀膜时工作气体的离化率，基于此种方法对传统磁控溅射技术的进行改进，采用中频或脉冲直流电源溅射石墨靶，并控制工作气体压强、温度、时间、...
李刚吕起鹏王锋公发全邓淞文孙龙金玉奇
文献传递
一种高热流密度的冷却装置和冷却方法
本发明公开了一种高热流密度的冷却方法，包括：圆形碟片状增益晶体；高热导率薄膜；带孔的射流喷嘴；带卡口的筒状外壁；焊料自吸收孔五部分组成。本发明利用带卡口的筒状外壁将圆形碟片状增益晶体夹持后，将晶体焊接于夹持结构上；采用原...
公发全李刚刘锐潘艳伟贾勇王锋邓淞文孙天祥金玉奇
文献传递
一种SiC基底表面改性层的制备方法
本发明属于薄膜沉积技术领域，具体涉及一种新型的SiC基底表面改性层的制备技术。与目前主流的磁控溅射技术制备SiC基底改性层不同，本发明使用射频离子束溅射技术。主要原理是使用高纯度的单晶硅靶为原材料。在真空下，使用无污染的...
邓淞文公发全李刚
文献传递
一种激光晶体焊接治具及焊接方法
本发明涉及激光晶体领域，具体地说是一种激光晶体焊接治具及焊接方法，包括焊接座、焊接罩、压柱和压块伞，所述焊接座上设有凹槽，且所述凹槽内由下到上依次设有热沉、焊料和激光晶体，焊接罩罩于所述焊接座上，且所述压柱下端穿过所述焊...
公发全李刚李想刘锐贾勇戴隆辉王锋孙天祥邓淞文吕少波吕起鹏金玉奇
一种带镧系氧化物疏水光学薄膜的光学镜片及其制备
本发明公开了一种原子层沉积法制备的镧系氧化物疏水光学薄膜，其膜层材料采用镧系氧化物，该膜层镀于光学镜片基底表面时，不影响原镜片的光学性能。可应用于要求疏水性的光学器件表面，如防污染光学透射镜，反射镜等。本发明的镧系氧化物...
汪彦龙李刚张绍骞邓淞文向潜
文献传递
一种薄膜应力的消除方法
本发明涉及一种薄膜应力的消除方法，采用双离子束溅射镀膜技术，在光学基片上完成薄膜镀制之后，经过一系列的退火热处理，结合镀膜材料的热力学特性，控制退火热处理参数，如退火温度、退火时间、退火次数、升温/降温速率等工艺条件实现...
李刚吕起鹏邓淞文吕少波金玉奇
文献传递
一种碟片激光器
本发明公开了一种碟片激光器，包括：LD泵浦源，匀化棒，聚焦系统，聚焦反射镜，反射镜组，碟片晶体、热沉，输出耦合镜等八部分组成。本发明利用半导体激光器对碟片激光器进行端面多次泵浦，通过在聚焦反射镜前端环带上的倾斜通孔，使入...
公发全刘锐李刚贾勇邓淞文孙天祥王锋潘艳伟金玉奇
全选 清除 导出
共4页<1234>
聚类工具0