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方振华

作品数：6 被引量：0H指数：0
供职机构：浙江大学宁波理工学院更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇中文专利

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 6篇扩散膜
  • 6篇成膜
  • 6篇成膜物
  • 5篇光学
  • 4篇树脂
  • 2篇翘曲
  • 2篇羟基聚酯
  • 2篇羟基聚酯树脂
  • 2篇粒径
  • 2篇粒径控制
  • 2篇聚酯
  • 2篇聚酯树脂
  • 2篇抗划伤
  • 2篇扩散
  • 2篇基材
  • 2篇光学树脂
  • 1篇弹性体
  • 1篇弹性体改性
  • 1篇无机粒子
  • 1篇耐划伤

机构

  • 6篇浙江大学

作者

  • 6篇钟国伦
  • 6篇方振华

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
一种抗翘曲光学扩散膜及其制备方法
本发明的一种抗翘曲光学扩散膜，包括有透明基材层，透明基材层的一面涂覆形成光扩散层，该透明基材层的另一面涂覆形成抗粘结层，光扩散层和抗粘结层树包括树脂成膜物、光学扩散粒子、交联剂和溶剂，树脂成膜物由液体橡胶和光学树脂构成，...
方振华钟国伦
文献传递
一种柔性光学扩散膜及其制备方法
本发明的一种柔性光学扩散膜，包括有基材层，所述的基材层的上表面涂覆形成柔性光学扩散层，该基材层的下表面涂覆形成防粘接层，所述的柔性光学扩散层的涂液组成配方的重量份数为：树脂成膜物15份至30份、扩散粒子5份至30份、交联...
方振华钟国伦
文献传递
一种抗划伤型光学扩散膜及其制备方法
本发明的一种抗划伤型光学扩散膜，包括有基材层、光扩散层、防粘接层，光扩散层包括树脂成膜物、扩散粒子、交联剂和溶剂，扩散粒子包括有机粒子和无机粒子，有机粒子由大粒子、中粒子和小粒子组成，大粒子为PBMA粒子或者PIBMA粒...
方振华钟国伦
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一种柔性光学扩散膜及其制备方法
本发明的一种柔性光学扩散膜，包括有基材层，所述的基材层的上表面涂覆形成柔性光学扩散层，该基材层的下表面涂覆形成防粘接层，所述的柔性光学扩散层的涂液组成配方的重量份数为：树脂成膜物15份至30份、扩散粒子5份至30份、交联...
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一种抗划伤型光学扩散膜及其制备方法
本发明的一种抗划伤型光学扩散膜，包括有基材层、光扩散层、防粘接层，光扩散层包括树脂成膜物、扩散粒子、交联剂和溶剂，扩散粒子包括有机粒子和无机粒子，有机粒子由大粒子、中粒子和小粒子组成，大粒子为PBMA粒子或者PIBMA粒...
方振华钟国伦
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一种抗翘曲光学扩散膜及其制备方法
本发明的一种抗翘曲光学扩散膜，包括有透明基材层，透明基材层的一面涂覆形成光扩散层，该透明基材层的另一面涂覆形成抗粘结层，光扩散层和抗粘结层树包括树脂成膜物、光学扩散粒子、交联剂和溶剂，树脂成膜物由液体橡胶和光学树脂构成，...
方振华钟国伦
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