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邓世刚

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：京东方科技集团股份有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文专利

主题

  • 2篇清洁装置
  • 2篇显示技术
  • 2篇放电装置
  • 1篇导轨
  • 1篇人身安全
  • 1篇曝光机
  • 1篇气孔
  • 1篇腔体
  • 1篇清洁系统
  • 1篇清洗液
  • 1篇无尘
  • 1篇吸气
  • 1篇酒精
  • 1篇基台
  • 1篇工业酒精
  • 1篇吹气

机构

  • 3篇京东方科技集...

作者

  • 3篇肖磊
  • 3篇陈一民
  • 3篇邓世刚
  • 2篇李晓虎
  • 1篇卜斌

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 1篇2013
共 3 条 记 录，以下是 1-3
全选 清除 导出
排序方式：
一种曝光机基台的清洗装置
本实用新型涉及设备清洗技术领域，公开了一种曝光机基台的清洗装置。包括：固定架，固定在曝光机上；安装于固定架上的清洗耙本体，清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通容腔的开口；密封开口的塞盖；位于清洗耙本体的清洁面上的海绵，...
肖磊卜斌邓世刚陈一民
文献传递
一种清洁装置以及自动清洁系统
本发明实施例提供了一种清洁装置以及自动清洁系统，涉及显示技术领域，可去除物品表面的污染颗粒；该清洁装置包括离子清洁系统、传输轨道以及承载台；所述离子清洁系统包括腔体、设置在腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在腔体内部且位于吹气...
李晓虎肖磊邓世刚陈一民
文献传递
一种清洁装置以及自动清洁系统
本发明实施例提供了一种清洁装置以及自动清洁系统，涉及显示技术领域，可去除物品表面的污染颗粒；该清洁装置包括离子清洁系统、传输轨道以及承载台；所述离子清洁系统包括腔体、设置在腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在腔体内部且位于吹气...
李晓虎肖磊邓世刚陈一民
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