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董志英

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：京东方科技集团股份有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 1篇镀膜
  • 1篇镀膜设备
  • 1篇真空
  • 1篇真空泵
  • 1篇良品率
  • 1篇量产
  • 1篇金属
  • 1篇壳体
  • 1篇控制阀
  • 1篇控制装置

机构

  • 2篇北京京东方光...
  • 1篇京东方科技集...

作者

  • 2篇董志英
  • 1篇潘梦霄
  • 1篇张贺攀

年份

  • 2篇2014
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
一种真空反应设备
本实用新型公开了一种真空反应设备，所述设备包括反应腔、控制阀和真空泵；所述真空反应设备还包括第二检测装置和控制装置；所述第二检测装置，用于检测所述真空泵内的参数，并将所述参数发送给所述控制装置；所述控制装置，用于判断所述...
艾青南潘梦霄董志英张贺攀
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一种镀膜设备
本实用新型公开一种镀膜设备，所述镀膜设备包括：壳体、第一电极板、第二电极板和多个接地金属杆；所述第一电极板设置于所述壳体内；所述第二电极板设置于所述壳体内，并与所述第一电极板相对设置，所述第二电极板能够在靠近和远离所述第...
艾青南董志英潘梦霄周贺
文献传递
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