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自制数字锁频紫外-可见吸收谱仪及应用: 紫外—可见吸收光谱仪，作为现代材料分析的一种重要手段，在各领域已经得到了广泛的应用。国产仪器价格便宜，但波长扫描范围短，精度不高。进口仪器虽然扫描范围大，精度高，但价格也高。本文在节约成本，提高精度的前提下，采用16位...; 芮祥新; 文献传递

反应沉积法制备c轴取向ZnO薄膜及表征被引量：3: 2002年; 以二水合醋酸Zn为原料 ,采用反应沉积方法在非晶玻璃衬底上制备出了高度c轴取向、结晶良好的ZnO薄膜。研究了不同衬底温度和Zn源温度对ZnO薄膜性质的影响 ,探讨了不同衬底温度和Zn源温度下生长ZnO薄膜的最佳参数。本文还讨论了该方法制备ZnO薄膜的沉积机制及优化条件下样品的透光特性。; 刘坤季振国杨成兴芮祥新王龙成叶志镇; 关键词：C轴取向 ZNO薄膜 X射线衍射氧化锌半导体

n型苝/p型无金属酞菁异质复合多层膜的紫外-可见吸收谱研究被引量：1: 2003年; 利用真空蒸发技术生长了层厚为纳米数量级的n型导电系衍生物 (全氟取代酰亚胺 ) /p型导电无金属酞菁异质复合多层膜 ,并测试了样品的紫外 -可见吸收光谱。UV -Vis吸收谱实验结果表明 ,对应酞菁Q带吸收的主峰消失 ,次峰发生蓝移 ;全氟取代酰亚胺的吸收峰也发生蓝移 ,吸收带宽度扩展。结果表明 ,复合多层结构中与酞菁之间的电荷转移及纳米层厚导致的量子尺寸效应使分子中电子跃迁发生变化。; 季振国向因芮祥新王龙成汪茫; 关键词：酞菁

真空蒸发沉积VOPc薄膜及磁场对薄膜结构与性能的影响: 2003年; 用真空蒸发制备了酞菁氧钒 (VOPc)薄膜 ,并在磁场中进行了热处理。用X光电子能谱、X射线衍射、紫外可见吸收光谱、原子力显微镜等手段对制备的薄膜进行了表征。结果表明沉积的酞菁氧钒薄膜为α 型 ,成分接近酞菁氧钒的分子式。制备的薄膜在磁场中进行了热处理 ,发现磁场使酞菁氧钒薄膜性质发生改变 :UV VIS吸收谱Q带发生红移 ;XRD谱图衍射峰强度明显增强 ,峰位略有变化 ;原子力显微镜 (AFM)分析发现晶粒大小无明显变化。; 季振国向因王龙成芮祥新上田裕清; 关键词：磁场

真空沉积酞菁铅和酞菁氧钒层状纳米复合膜的吸收光谱研究被引量：2: 2002年; Nanometer multilayer composite films of lead phthalocyanine(PbPc) and vanadyl phthalocyanine(VOPc) were prepared by vacuum vapor deposition. It is found that a new absorption peak around 940 nm appeared as discovered by UV-visible absorption analysis. Compared to the Q bands absorption of single component films of VOPc and PbPc, the new peak is red-shifted. It is also found that the new peak shows a small red-shift when the thickness of the PbPc layer increases. It is concluded that the new peak is a result of composition, and the red-shift is caused by both interface effect and quantum confinement effect of the nanometer multilayered structure.; 芮祥新季振国王龙成汪茫上田裕清; 关键词：真空沉积吸收光谱 UV-VIS

盐酸蒸气处理对酞菁氧钛薄膜的影响: 2002年; 用HC1蒸气对真空蒸发沉积的酞菁氧钛薄膜进行了处理 ,并用UV Vis吸收谱、X射线光电子能谱 (XPS)和X射线衍射 (XRD)进行了分析。吸收谱结果表明HC1与酞菁氧钛蒸气作用后产生一个新的吸收峰 ,峰值位于 82 0nm附近。此峰的出现使得酞菁氧钛光吸收带 (Q带 )加宽进入红外波段。光电子谱分析表明酞菁氧钛薄膜的成分发生了变化 ,其中Cl和O的含量随HC1蒸气处理时间的增加而增加 ,而N和Ti的含量随HC1蒸气处理时间的增加而减小 ,说明HC1蒸气可与真空蒸发沉积的酞菁氧钛薄膜发生作用。XRD测试结果表明 ,经HC1蒸气处理后的酞菁氧钛薄膜的衍射谱中出现了若干新的衍射峰。; 季振国许倩斐朱玲王龙成芮祥新; 关键词：真空蒸发沉积有机光导材料 XPS XRD

锗/硅短周期超晶格的X射线双晶衍射研究被引量：1: 2001年; 用 X射线双晶衍射对气源分子束外延 (GS- MBE)制备的锗 /硅短周期超晶格 (SPS)样品进行了分析。所有样品的锗层厚度固定为 1.5单原子层 ,而硅层厚度为 1.4～ 3.8nm。对于硅层厚度小于 2 .4nm的样品来说 ,双晶衍射摇摆曲线中由超晶格引起的衍射峰较宽 ,而且看不到干涉引起的精细结构 ,这表明超晶格中可能存在位错及界面不平整。对硅层较厚 (>2 .9nm)的样品 ,摇摆曲线中超晶格引起的衍射峰很窄 ,而且有明显的由干涉产生的精细结构 ,表明此时超晶格的质量较高 ,界面平整。对硅层厚度为2 .1～ 2 .9nm的样品 ,超晶格对应的衍射峰可以分解为两个宽度不等的子峰 ,但没有精细结构出现。这个区间与文献 [1]报道的在荧光光谱发现的一个异常带出现区间完全相同。本实验的 X射线双晶衍射测试与分析结果支持文献; 季振国袁骏卢焕明芮祥新王龙成; 关键词：锗硅短周期超晶格双晶衍射

真空共沉积法制备酞菁铅与酞菁氧钒复合膜的研究被引量：2: 2002年; 酞菁类化合物由于自身的各种特性在众多领域得到了广泛的应用 ,成为功能材料研究领域中的热点之一。在本文中 ,我们主要研究了真空沉积法制备的两种金属酞菁类材料PbPc与VOPc的单成分膜和复合膜的性质 ,并对其进行了紫外可见吸收光谱和X光电子能谱的测试 ,发现两者之间的复合并不是简单的叠加。; 王龙成季振国芮祥新袁骏向因汪茫上田裕清; 关键词：复合膜吸收谱 XPS 有机光导材料

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芮祥新