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王金铭

作品数：3 被引量：14H指数：1
供职机构：武汉理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇磁流变
  • 1篇多模式
  • 1篇性能研究
  • 1篇修饰
  • 1篇抛光
  • 1篇阻尼
  • 1篇阻尼力
  • 1篇阻尼器
  • 1篇稳定性
  • 1篇抗氧化
  • 1篇抗氧化性
  • 1篇活塞
  • 1篇分子
  • 1篇分子修饰
  • 1篇磁流变抛光
  • 1篇磁流变液
  • 1篇磁流变液阻尼...
  • 1篇磁流变阻尼器

机构

  • 3篇武汉理工大学

作者

  • 3篇王金铭
  • 2篇程海斌
  • 2篇张清杰
  • 2篇官建国
  • 1篇张剑
  • 1篇侯鹏
  • 1篇袁润章
  • 1篇陈作炳
  • 1篇肖峻
  • 1篇马会茹
  • 1篇陶剑青

传媒

  • 1篇物理化学学报

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2007
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
有机分子修饰铁粒子表面改善水基磁流变液的抗氧化性和稳定性被引量：13
2008年
采用有机分子N-葡萄糖基乙二胺三乙酸(GED3A)修饰羰基铁(CI)粒子表面的方法,制备了复合磁性粒子(CMPs)和水基磁流变(MR)液;用扫描电镜(SEM)、振动样品磁强计(VSM)和带磁场供应和控制器的流变仪表征了CMPs及水基MR液的性能;同时,通过稳定性试验、空气氧化试验、酸腐蚀试验分别分析了水基MR液的分散稳定性和抗氧化性.结果表明,用此方法制备的CMPs具有良好的软磁性能,饱和磁化强度(Ms)为182.2emu·g-1,矫顽力(Hc)为4.17Oe,剩磁(Mr)为0.1944emu·g-1.与原CI粒子水基MR液比较,制备的水基MR液的沉降率下降了约24.4%;在酸的浓度为0.02-0.10mol·L-1范围内,抗HCl氧化的能力提高了92.6%-95.7%,抗HNO3氧化的能力提高了86.1%-93.8%.
程海斌王金铭马会茹侯鹏官建国张清杰
关键词：抗氧化性
多模式磁流变液阻尼器
一种多模式磁流变阻尼器。包括缸体、活塞组件和蓄能器(11)，活塞组件包括空心活塞杆(18)、活塞导向器(21)、磁芯(23)及活塞(25)，缸体包括缸筒(5)、上封盖(19)和下封盖(26)；下工作腔(14)有孔和蓄能器...
程海斌张剑王金铭张清杰袁润章官建国陶剑青肖峻陈作炳
文献传递
水基磁流变液的制备和性能研究
水基磁流变液用于磁流变抛光具有去除率高、屈服剪切应力大的优点，是磁流变抛光液的关键材料，研究水基磁流变液的制备技术和性能是实现磁流变抛光的重要基础。本文针对水基磁流变液容易发生氧化，分散稳定性差的应用瓶颈技术难题，设计、...
王金铭
关键词：磁流变抛光
文献传递
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