高伟
- 作品数：21 被引量：27H指数：3
- 供职机构：中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项中国工程物理研究院发展基金更多>>
- 相关领域：理学化学工程一般工业技术兵器科学与技术更多>>
- 一种材料内部多缺陷的激光超声三维定位定量检测方法
- 本发明公开了一种材料内部多缺陷的激光超声三维定位定量检测方法，在二维扫描条件下，利用激发的斜透射超声体波、底面入射超声横波和底面反射横波从三个传播方向路径的交叉点对内部缺陷进行定位检测；利用斜透射超声体波幅值衰减或波前时...
- 孙凯华王增勇李建文孙朝明黄姝珂葛继强高伟
- 一种用于KDP晶体的抛光液
- 本发明提供了一种用于磷酸二氢钾（KDP）晶体的抛光液，所述抛光液由油相、表面活性剂和KDP水溶液组成，是一种特殊的油包水微乳液。在表面活性剂的作用下，一定浓度的KDP水溶液作为分散相以纳米级液滴的形式被分散在油相中。在抛...
- 董会王利利潘金龙高伟李晓媛王超黄姝珂吉方王宝瑞
- 文献传递
- 一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液
- 本发明提供了一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液，所述抛光液由油相、分散相溶剂、酸性离子液体（AIL）、表面活性剂以及助表面活性剂组成。在表面活性剂和助表面活性剂的作用下，AIL溶液作为分散相被包覆在油相中，形成油...
- 董会潘金龙王利利王超李晓媛高伟黄姝珂吉方王宝瑞
- 文献传递
- 高浓度纳米氧化铈料浆中颗粒的分散行为被引量：1
- 2015年
- 准确探明高浓度纳米氧化铈料浆中颗粒的分散行为,可为其在抛光中充分发挥尺度效应提供依据。制备了2种纳米氧化铈的高浓度料浆,从料浆相对粘度和颗粒粒度分布及zeta电位等方面研究了颗粒的分散行为。结果表明,基于料浆相对粘度变化趋势可获得优化的分散参量,采用空白基液即原溶液稀释高浓度料浆可有效提高粒度分布测量的浓度上限。结合宏观流变性能和微观粒度分布测量及原溶液稀释技术,可有效研究高浓度料浆中纳米颗粒的分散状态。
- 魏齐龙李晓媛高伟王超何建国
- 关键词：纳米氧化铈相对粘度
- 基于动电学研究磁流变抛光液中双相颗粒的分散行为
- 磁流变抛光技术是一种确定性的超精密光学元件加工技术,是强激光光学元件表面无缺陷加工的主要手段。磁流变抛光液是磁流变抛光技术的关键和基础,它直接作用于光学元件表面并决定抛光去除过程与效果。目前,多通过抛光工艺试验研究磁流变...
- 高伟
- 关键词：ZETA电位
- 文献传递
- 磁流变抛光与磁流变液:原理与研究现状被引量：10
- 2015年
- 磁流变抛光液是磁流变抛光的"刀具",是磁流变抛光技术的核心之一。简要介绍了磁流变抛光技术的原理与特点,重点对磁流变抛光液的本征研究工作进行梳理和总结。分别对磁流变抛光液中双相颗粒的分散及表征,零磁场及磁场作用下流变行为与模型,颗粒受力以及磁流变抛光液与工件表面的作用机理等方面进行了分析和总结;重点分析了磁流变抛光液在磁场作用下颗粒的受力情况以及与工件表面物理作用和化学作用的耦合机制。提出了研究磁流变抛光液的三个基础性问题,展望了磁流变抛光液的研究趋势并在此基础上提出了研究路线图,为磁流变抛光液的进一步设计、制备及应用提供参考。
- 高伟魏齐龙李晓媛王超汤光平
- 一种用于KDP晶体的化学抛光液、制备方法及抛光方法
- 本发明公开了一种用于KDP晶体的化学抛光液、制备方法及抛光方法。该抛光液由植物油、有机酸、离子液体、表面活性剂、助表面活性剂组成，是一种新型的完全无水的微乳液。本发明的抛光液，制备方法简单、性质稳定且使用方法简单，能够实...
- 董会潘金龙王英英叶作彦王利利李晓媛叶敏恒秦代成高伟黄姝珂王超
- 文献传递
- 钢-铅粘接结构的粘接强度对超声体波反射与透射特性的影响被引量：8
- 2019年
- 针对多层异种金属粘接结构中粘接强度的超声检测与表征困难的问题,采用线性弹簧模型和等效弹性模量模型来分别表征界面粘附强度和内聚强度,推导了超声体波斜入射N层粘接结构的反射与透射系数表达式。通过在不同入射面和入射声波模式等条件下,同时连续改变两种参数来系统研究粘接层界面粘附强度与内聚强度变化对超声波反射与透射特性的影响关系,确定了能够敏感表征粘接强度的超声参量,为粘接强度的无损检测与评价提供理论依据。
- 孙凯华李建文孙朝明葛继强王增勇高伟
- 关键词：粘接强度透射系数频移
- KDP晶体表面残留磁流变抛光液清洗技术研究(英文)
- 2018年
- 磷酸二氢钾(KDP)晶体是一种非常优良的非线性光学晶体材料,在强激光系统中有着重要应用。但其理化性质特殊,加工高表面质量的元件难度很大。目前研究认为磁流变抛光技术能够获得高精度的KDP晶体表面,但是该加工过程带入的表面残留如不清除,会大大降低元件的性能。提出了一种针对磁流变抛光后续的KDP的清洗技术,设计了含水活性清洗液,结合超高频超声作用共同去除KDP表面残留。光学显微镜和白光干涉仪分析表明,该技术较好地去除了表面残留,并且晶体表面粗糙度有所降低。拉曼光谱和激光干涉仪测试表明,清洗前后KDP表面化学结构和面形精度一致。该研究获得了较为满意的结果,说明该方法是一种有应用前景的KDP超精密清洗方法。
- 李晓媛高伟田东董会吉方王超
- 关键词：光学晶体KDPMRF
- 一种用于纳米颗粒浆料的组合式机械分散方法
- 本发明提供一种用于纳米颗粒浆料的组合式机械分散方法，其包括以高剪切乳化机分散基液1~5分钟；将纳米颗粒加入基液中并继续乳化分散1~5分钟，获得预分散的纳米颗粒浆料；再将预分散浆料以高功率超声破碎机进行二次分散，时间为1~...
- 魏齐龙李晓媛何建国高伟王超罗清黄文吉方
- 文献传递
