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王艳艳

作品数:11 被引量:3H指数:1
供职机构:大连理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 2篇学位论文
  • 2篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇多晶
  • 5篇多晶硅
  • 5篇多晶硅薄膜
  • 5篇硅薄膜
  • 4篇ECR-PE...
  • 3篇电池
  • 3篇衍射
  • 3篇正极
  • 3篇正极材料
  • 3篇反射高能电子...
  • 3篇
  • 2篇水泥
  • 2篇水泥基
  • 2篇炭黑
  • 2篇外层
  • 2篇无钴
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米碳
  • 2篇纳米碳黑
  • 2篇纳米炭黑

机构

  • 11篇大连理工大学

作者

  • 11篇王艳艳
  • 7篇吴爱民
  • 5篇秦福文
  • 3篇李伯海
  • 3篇冯庆浩
  • 2篇王琪
  • 2篇黄昊
  • 2篇李冬生
  • 1篇王叶安
  • 1篇顾彪
  • 1篇徐茵
  • 1篇马世猛

传媒

  • 2篇半导体光电
  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇2006北京...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 2篇2012
  • 4篇2007
  • 2篇2006
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
用ECR-PECVD低温沉积多晶硅薄膜
2006年
在自行设计研制的先进的电子回旋共振(ECR)等离子体增强化学气相沉(PECVD)装置上,采用ECR-PECVD可控活化低温外延技术,以SiH4+H2为气源,硅和普通玻璃为衬底,低温(小于等于550℃)制备多晶硅(poly-Si)薄膜。利用反射高能电子衍射、透射电子显微镜和原子力显微镜研究了SiH4流量、H2流量和衬底温度等工艺参数的改变对薄膜晶化的影响。通过分析薄膜结构和形貌,得出适宜低温生长多晶硅薄膜的工艺参数。
王艳艳秦福文吴爱民冯庆浩
关键词:ECR-PECVD多晶硅薄膜反射高能电子衍射透射电子显微镜原子力显微镜
锂离子电池富锂锰基正极材料的表面改性及电化学性能研究
王艳艳
低温下Poly-Si薄膜的ECR-PECVD生长及特性研究
多晶硅薄膜以其优异的光电性能和较低的制备成本,在能源信息工业中,同益成为一种重要的电子材料,并被广泛应用于大规模集成电路和半导体分立器件。为降低多晶硅薄膜的生产成本,研究在廉价的玻璃衬底上低温制备多晶硅薄膜的技术成为当今...
王艳艳
关键词:ECR-PECVD多晶硅薄膜缓冲层薄膜生长
文献传递
一种纳米炭黑压电陶瓷复合水泥基测力探伤传感器
本发明涉及一种纳米炭黑压电陶瓷复合水泥基传感器,是一种与混凝土相容性好,能够精确定位裂缝位置,同时测定压力变化的高强度高灵敏度的纳米碳黑压电陶瓷复合水泥基传感器。将水泥与炭黑按5∶1的比例均匀混合制作成立方块体,在水泥立...
王琪李冬生王艳艳
文献传递
一种纳米炭黑压电陶瓷复合水泥基测力探伤传感器
本实用新型涉及一种纳米炭黑压电陶瓷复合水泥基测力探伤传感器,是一种与混凝土相容性好,能够精确定位裂缝位置,同时测定压力变化的高强度高灵敏度的纳米碳黑压电陶瓷复合水泥基传感器。将水泥与炭黑按5∶1的比例均匀混合制作成立方块...
王琪李冬生王艳艳
文献传递
采用ECR-PECVD技术低温生长多晶硅薄膜
在自行设计研制的先进电子回旋共振(ECR)等离子体增强化学气相沉(PECVD)装置上,采用'ECR-PECVD'可控活化低温外延技术,以SiH4+H2为气源,硅和普通玻璃为衬底,低温(≤550℃)制备多晶硅薄膜.利用反射...
秦福文吴爱民王艳艳冯庆浩李伯海
关键词:ECR-PECVD多晶硅薄膜反射高能电子衍射电子回旋共振
文献传递
一种表面多组分改性无钴富锂锰基正极材料及制备方法
本发明公开了一种表面多组分改性无钴富锂锰基正极材料及制备方法。利用离子交换法在材料次外层形成一层尖晶石相,具有三维Li<Sup>+</Sup>扩散通道,同时在表层Li位中掺杂Ce减缓TM离子的转移,有效稳定晶格氧的演化,...
黄昊王艳艳于文华吴爱民
采用ECR-PECVD技术低温生长多晶硅薄膜
在自行设计研制的先进电子回旋共振(ECR)等离子体增强化学气相沉 (PECVD)装置上,采用“ECR-PECVD”可控活化低温外延技术,以SiH4+H2 为气源,硅和普通玻璃为衬底,低温(≤550℃)制备多晶硅薄膜。利用...
秦福文吴爱民王艳艳冯庆浩李伯海
关键词:ECR-PECVD多晶硅薄膜反射高能电子衍射
文献传递
一种表面多组分改性无钴富锂锰基正极材料及制备方法
本发明公开了一种表面多组分改性无钴富锂锰基正极材料及制备方法。利用离子交换法在材料次外层形成一层尖晶石相,具有三维Li<Sup>+</Sup>扩散通道,同时在表层Li位中掺杂Ce减缓TM离子的转移,有效稳定晶格氧的演化,...
黄昊王艳艳于文华吴爱民
多晶硅沉积工艺中中间层对多晶硅质量的影响被引量:1
2007年
采用电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)技术,以SiH4和H2为气源,在350℃的低温条件下,在普通玻璃衬底上沉积了多晶硅薄膜。主要考察了中间层对多晶硅薄膜沉积质量的影响。实验证明,当中间层的沉积温度为350℃,H2流量为20 sccm时,得到多晶硅薄膜晶粒的直径最大,为53 nm;且随着中间层沉积温度的提高,薄膜的结晶度提高。
李伯海秦福文吴爱民王艳艳徐茵顾彪
关键词:多晶硅薄膜中间层
共2页<12>
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