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史义才
作品数:
4
被引量:7
H指数:1
供职机构:
中国科学院等离子体物理研究所
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
理学
化学工程
核科学技术
金属学及工艺
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合作作者
任兆杏
国防科技大学
宁兆元
苏州大学物理科学与技术学院能源...
方瑜德
国防科技大学
张建德
国防科技大学
邱励俭
国防科技大学
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机构
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苏州大学
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国防科技大学
作者
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任兆杏
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史义才
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宁兆元
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邱励俭
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张建德
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方瑜德
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陈俊芳
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郭射宇
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电子学报
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国防科技大学...
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真空科学与技...
年份
1篇
1996
1篇
1995
1篇
1994
1篇
1993
共
4
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磁镜中哨声波加热等离子体研究
1993年
本文研究了在产生晃荡电子的特定磁镜磁场位形中。使用哨声波加热等离子体的机制,并对等离子体的参数和等离子体共振区结构进行了测量研究,研究结果表明:(1) 在磁镜基频共振层附近存在等离子体密度峰和电子温度峰;(2) 该峰随着磁镜中心磁场的变化与基频共振层一起移动;(3) 等离子体加热的物理机制为:大量的电子在基频共振层吸收微波,并在此处反弹。
张建德
方瑜德
史义才
宁兆元
任兆杏
邱励俭
关键词:
磁镜
等离子体
哨声波
全文增补中
微波电子回旋共振等离子体金属内壁镀膜装置及其实验研究
1995年
史义才
郭射宇
任兆杏
宁兆元
关键词:
等离子体
ECR
PECVD
磁镜中晃荡电子形成熟垒的实验研究
1994年
本文在实验上研究了FCRH产生晃荡电子形成串级磁镜热垒的可行性,并对等离子体电位进行了测量,研究结果表明,ECRH产生晃荡电子形成热垒是成功的。
张建德
方瑜德
史义才
宁兆元
任兆杏
邱励俭
关键词:
磁镜
ECR-PECVD制备Si_3N_4薄膜的特性及其应用的研究
被引量:7
1996年
本文利用ECR-PECVD技术在不同沉积温度下制备了Si3N4薄膜,利用Si3N4薄膜的透射光强度曲线计算了Si3N4薄膜的折射率和膜厚,计算结果与实测值符合较好。结果表明,随着沉积温度的提高,Si3N4薄膜的折射率增大,致密性提高,Si3N4薄膜厚度在60mm直径范围内不均匀度小于5%。测定了Si3N4薄膜的显微硬度。利用荧光分光光度计测定了Si3N4薄膜的光致发光效应。初步进行了Si3N4薄膜的超高频大功率晶体管器件中作为钝化膜的应用研究。
任兆杏
陈俊芳
丁振峰
史义才
宋银根
王道修
关键词:
ECR-PECVD
钝化膜
光学特性
氮化硅
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