卢相甫
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：华东师范大学理工学院物理学系更多>>
- 发文基金：上海市科委纳米专项基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- 热退火对ZnO-SiO_2复合薄膜的微结构及荧光特性的影响被引量：1
- 2007年
- 采用脉冲激光沉积技术(PLD)在单晶Si衬底上制备了ZnO-SiO2复合薄膜。分别用SEM、XRD观察了样品在沉积态(300℃)及700℃和900℃下热退火后的形貌和结构。发现经700℃热处理后,样品中有第三相β-Zn2SiO4形成,经900℃热处理后的样品中硅锌矿型Zn2SiO4取代了β-Zn2SiO4成为第三相。研究了热退火处理前后样品的荧光特性变化,结果表明经700℃热处理后,荧光光谱与沉积态相比,紫外区域的发光强度有较大提高,可见光区域的宽带强度变弱;经900℃热处理后,紫外区域荧光强度与700℃处理相比略有减小,可见光发光带消失。
- 卢相甫程文娟马学鸣石旺舟
- 关键词：热退火光致发光
- ZnO—SiO<,2>复合薄膜的结构和荧光特性的研究
- ZnO是一种纤锌矿结构的宽禁带半导体材料，具有优异的光电特性，而SiO<,2>是一种化学性质稳定的理想的光学透明介质。将纳米ZnO颗粒复合于SiO<,2>中，研究其微观结构特征和尺寸效应对发光特性的影响，对推进纳米ZnO...
- 卢相甫
- 关键词：脉冲激光沉积荧光性能EU3宽禁带半导体
- 文献传递
