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兰秀清

作品数：1 被引量：11H指数：1
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇抛光
  • 1篇沥青
  • 1篇磨料
  • 1篇镜面
  • 1篇超光滑
  • 1篇超光滑表面

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇王家金
  • 1篇吴时彬
  • 1篇徐清兰
  • 1篇伍凡
  • 1篇张晶
  • 1篇雷柏平
  • 1篇兰秀清

传媒

  • 1篇光电工程

年份

  • 1篇2003
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
单晶硅镜面超光滑表面工艺技术研究被引量：11
2003年
用古典的沥青盘抛光技术,通过对超光滑抛光时所使用磨料的选取、沥青抛光盘的软硬和 厚度的合理应用、抛光温度的控制等工艺参数的优化,以f220mm内的单晶硅进行了超光滑表面抛光工艺试验。试验结果,单晶硅表面粗糙度RMS值达0.37nm,平面面形误差PV小于l/15,且加工工艺技术稳定可靠。
徐清兰伍凡吴时彬王家金雷柏平兰秀清张晶
关键词：抛光磨料单晶硅
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共1页<1>
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