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梁鸿秋

作品数：3 被引量：15H指数：2
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金青年科技基金更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电气工程

主题

  • 2篇电光
  • 2篇光学
  • 1篇电光材料
  • 1篇电光器件
  • 1篇电光效应
  • 1篇液晶
  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇图形化
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇相控阵
  • 1篇刻蚀
  • 1篇光材料
  • 1篇光器件
  • 1篇光学相控阵
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性能
  • 1篇PLZT
  • 1篇ITO

机构

  • 3篇电子科技大学

作者

  • 3篇梁鸿秋
  • 2篇张继华
  • 2篇杨传仁
  • 1篇冷文建
  • 1篇张瑞婷
  • 1篇陈宏伟
  • 1篇闻伟
  • 1篇宋秀娟

传媒

  • 1篇电工材料
  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2008
  • 2篇2007
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
电光材料在光学相控阵技术中的应用被引量：5
2007年
综述了光学相控阵的发展背景,对不同电光材料铌酸锂(LiNbO3)、砷化镓铝(AlGaAs)、锆钛酸铅镧(PLZT)陶瓷和液晶制作的光学相控阵进行了阐述,简要介绍了近期的一些研究成果,并对光学相控阵技术的发展前景进行了展望。
梁鸿秋杨传仁张继华冷文建宋秀娟
关键词：光学相控阵液晶电光材料
PLZT薄膜电学和光学性能及电光器件原理研究
利用光学相控阵实现光扫描技术具有重要的应用前景。其基本构成单元是光移相器。采用具有电光效应、响应速度快、热稳定性高、耐强激光的高性能铁电薄膜材料PLZT(锆钛酸铅镧)制作光移相器是达到该目的的重要技术途径。本文探讨了氩氧...
梁鸿秋
关键词：电光效应退火温度
文献传递
ITO/PLZT薄膜湿法刻蚀研究被引量：8
2008年
介绍了一种锆钛酸铅镧(PLZT)基铟锡氧化物(ITO)薄膜的湿法刻蚀法。用V(HCl)∶V(HNO3)∶V(H2O)=50∶3∶50的混合溶液对ITO进行不同温度的刻蚀试验。通过扫描电子显微镜(SEM)和X-射线能谱仪(EDS)分析表明,在35℃经30 nm/min刻蚀能得到图形边缘质量良好和表面无残留物的ITO图形;在同等条件下刻蚀的PLZT薄膜,刻蚀速率不及ITO的2%,表明该刻蚀方法具有良好的选择性。
闻伟杨传仁张继华陈宏伟梁鸿秋张瑞婷
关键词：湿法刻蚀图形化
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