您的位置： 专家智库 > >

张敏夫

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：复旦大学材料科学系更多>>
发文基金：国家电子信息产业发展基金电子信息产业发展基金更多>>
相关领域：电子电信电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 2篇液晶
  • 2篇液晶显示
  • 2篇液晶显示器
  • 2篇显示器
  • 2篇像素
  • 2篇光刻
  • 1篇电光
  • 1篇电光特性
  • 1篇液晶盒
  • 1篇光刻技术
  • 1篇MVA
  • 1篇VA

机构

  • 3篇复旦大学

作者

  • 3篇张敏夫
  • 2篇许军

传媒

  • 1篇复旦学报（自...
  • 1篇2009第八...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
共 3 条 记 录，以下是 1-3
全选 清除 导出
排序方式：
VA像素的改进
近年来，液晶电视的需求呈现一个强劲的增长势头。对于VA模式的LCD，在子像素的边缘容易出现多种类型的黑纹。本课题主要研究利用光刻技术来制造ITO精密电极基板，继而制作液晶盒并通过研究电光效应来评估消除黑纹的效果，并与计算...
张敏夫许军
关键词：光刻
文献传递网络资源链接
AIFF MVA液晶盒像素尺寸对其特性的影响
液晶在1888年被奥地利植物学家发现以后，已经从一个纯粹的科学研究对象发展成为一个欣欣向荣的产业。液晶电视也由于具有清晰度高、能耗低、寿命长、体积小等特点从奢侈品的行列走向了寻常百姓家。随着液晶制造技术的提高，液晶面板尺...
张敏夫
关键词：液晶显示器液晶盒电光特性
文献传递
AIFF MVA模式下像素尺寸对其特性的影响
2011年
近年来,液晶电视的需求呈现强劲的增长势头.多畴垂直取向(MVA)模式的液晶显示器(LCD)与其他显示模式的LCD相比,具有高对比度、宽视角及快速响应等特点,但需要制作昂贵且复杂的凸起结构以保证液晶分子的取向,因此如何避免制作凸起结构成为许多研究者的课题.为解决上述问题,采用新颖的增强边缘电场效应(AIFF)MVA技术,通过光刻手段制造不同图形参数的精密电极基板,并结合计算机模拟结果,分析了像素尺寸对液晶光学织构及电光特性的影响.
张敏夫许军
关键词：液晶显示器光刻技术
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0