张善文
- 作品数:75 被引量:68H指数:6
- 供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金:吉林省科技发展计划基金国家自然科学基金国家重大技术装备创新研制项目更多>>
- 相关领域:机械工程理学电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 一种应用刻划机制作平面双闪耀光栅的方法
- 本发明涉及衍射光栅制作技术领域,特别涉及一种应用刻划机制作平面双闪耀光栅的方法;本发明先将调整好的第一光栅刻刀和第二光栅刻刀分别安装在刻划机上的第一光栅刻划刀架系统和第二光栅刻划刀架系统上;将待刻划的光栅基底安装在刻划机...
- 糜小涛丛敏张善文于宏柱于海利吉日嘎兰图李晓天齐向东巴音贺希格
- 文献传递
- 一种平面双闪耀光栅的制备方法
- 本发明实施例提供了一种制作平面双闪耀光栅的方法,制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅,通过第一闪耀角和第二闪耀角的两块平面闪耀光栅的拼接和复制,来实现平面双闪耀光栅的制作,制作方法光栅...
- 糜小涛丛敏于宏柱李文昊张善文杨国军齐向东巴音贺希格唐玉国
- 文献传递
- 大型衍射光栅刻划机刀架系统的设计被引量:9
- 2013年
- 设计了一套光栅刻划机刀架系统。该系统将刻划刀具部分安装于能绕鞍形滑块自由转动的安装板上,利用铰链机构来实现了刀架刻划部分与承重部分的分离,降低运动中鞍形滑块的变形、偏移等对金刚石刻刀的影响。分析了刀架运动中产生的误差以及该误差对金刚石刻刀的影响。提出了一种新型检测光路结构,该结构利用双频激光干涉仪测量运动中刀架相对于导向导轨的位移变化。结果显示,刀架单向行程约70mm时,刀架在光栅刻划阶段相对于导向导轨在分度方向的最大位移值约为60nm。由于在刻划阶段,膜层对金刚石刻刀存在约束作用,所以金刚石刻刀相对于导向导轨的实际位移会更小。利用新的刀架结构刻制了一块70mm×70mm,600gr/mm的衍射光栅,对比利用原刀架结构刻制的光栅,该光栅杂散光强度减弱,质量提高。
- 陈科位于宏柱张善文齐向东于海利冯树龙
- 关键词:光栅刻划机刀架系统双频激光干涉仪
- 一种在原子力显微镜下刀具刃口半径检测用刃口定位装置
- 一种在原子力显微镜下刀具刃口半径检测用刃口定位装置属于刀具刃口检测领域,目的在于解决现有技术存在的刀刃定位困难、检测难度大和效率低的问题。本发明的一种在原子力显微镜下刀具刃口半径检测用刃口定位装置包括刀具刃口定位机构、光...
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- 文献传递
- 一种基于双导轨的多光栅刻刀式光栅刻划刀架系统
- 本申请提供一种基于双导轨的多光栅刻刀式光栅刻划刀架系统,包括主机座、工作台、平行设置的第一导轨和第二导轨、第一滑套、第二滑套、连接第一滑套和第二滑套的滑套连接架、测量反射镜、可拆卸地安装在所述滑套连接架上的n个刻划刀架装...
- 唐玉国李晓天马振予于海利齐向东吉日嘎兰图于宏柱糜小涛张善文巴音贺希格
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- 一种拉曼光谱仪
- 本发明涉及拉曼光谱领域,公开了一种拉曼光谱仪。本发明中的拉曼光谱仪中交叉色散元件用于色散,柱面镜用于光束压缩,并且采用了转台和中阶梯光栅模块的组合形式,配合不同的转台转动角度可以插入不同的拉曼探头,从而在原有的单一激发波...
- 李晓天孙雨琦唐玉国李文昊吉日嘎兰图张善文巴音贺希格齐向东常雯娟孙也尧
- 文献传递
- 一种衍射光栅的保护方法
- 本申请涉及衍射光栅保护的技术领域,具体公开一种衍射光栅的保护方法,包括S1,将石蜡融化成液态;S2,将融化的石蜡滴涂在衍射光栅表面;S3,将保护玻璃粘接在石蜡上;S4,石蜡固化后,衍射光栅和保护玻璃作为整体存储、运输;S...
- 于宏柱唐玉国常雯娟王耕赵络欣孙也尧江思博糜小涛李文昊张善文齐向东
- 光栅刻划刀方位角的测量装置及其测量方法
- 本发明公开了一种光栅刻划刀方位角的测量装置及其测量方法,其包括安装座、旋转台和观察镜,其中,安装座用于待检测刀架的安装与定位,而旋转台包括固定部和旋转部,旋转部和固定部沿周向均具有角度刻度,安装座安装在旋转部上;观察镜具...
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- 应用互易定理优化法设计光通信光栅被引量:1
- 2013年
- 光栅作为光通信系统中的色散型波分复用器,系统通常要求其在近掠入射条件下具有高衍射效率,传统设计方法给出的光栅闪耀角大,工艺上不易实现。基于光栅电磁场理论,提出用光栅互易定理计算光栅槽形初始值,结合衍射效率等高线法优化光栅槽形的设计方法—互易定理优化法。结果表明,C波段TM波-1级峰值衍射效率理论值为94.9%,测量值为92.1%。较传统光栅设计方法,互易定理优化法的应用降低了光通信光栅的制作难度,提高了衍射效率,为掠入射光栅的研制提供了更好的途径。
- 张善文营建新高键翔
- 关键词:光栅衍射互易定理波分复用衍射效率C波段
- 大型衍射光栅刻划机微定位系统控制器设计被引量:5
- 2015年
- 针对衍射光栅刻划机开环控制的定位精度不能满足指标要求的问题,在刻划机已有的状态和结构下,设计了微定位系统的控制器。首先,介绍了衍射光栅刻划机,分析了微定位系统及其定位精度指标。然后,运用系统辨识的方法,设计了微定位系统的扫频实验,建立其数学模型。接着,提出了在已有数学模型的基础上,运用实际测量数据和MATLAB/Simulink软件仿真试凑来设计控制器的方法,并设计了满足精度指标要求的控制器。最后,将设计的控制器应用于微定位系统并进行模拟刻划实验,实验结果可知:所设计的微定位系统控制器定位精度基本满足指标要求,其中峰-峰值小于40 nm,RSM值总体略大于2.8 nm。
- 糜小涛于宏柱高键翔于海利张善文齐向东
- 关键词:微定位系统控制器设计数学模型